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手持光譜儀合金分析儀TRACER 5g是一款基于X射線熒光（XRF）技術的高便攜性金屬成分分析設備，專為快速鑒別合金種類、檢測元素含量設計。設備采用微型X射線管與高分辨率探測器，結合智能算法，可在3-5秒內完成金屬材料的無損檢測，廣泛應用于金屬回收、冶金、制造業、質檢等領域，是現場快速分析的核心工具。
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高級自動轉塔數顯顯微硬度計THV-1MDT是一款集成自動轉塔系統與數字圖像分析技術的高精度硬度檢測設備，專為微小區域、薄層材料及復雜結構件的硬度測定設計。設備支持維氏（HV）、努氏（HK）等多硬度標尺，結合自動壓頭切換與物鏡對焦功能，可高效完成從粗到精的全流程檢測，是材料研發、質量控制與失效分析的理想工具。
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卓泰數顯加高加長洛氏硬度計HRSJ-150B是一款基于電子加載與數顯技術的高精度硬度檢測設備，專為金屬材料表面硬度測定設計。設備采用加高立柱與延長工作臺結構，適配大型或高位試樣的檢測需求，結合自動化加載與智能測量系統，可高效完成洛氏硬度（HRA/HRB/HRC）測試，是工業質檢與材料分析的理想工具。
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天星布氏硬度壓痕自動測量系統MS-1a是一款基于智能圖像分析技術的高精度自動化檢測設備，專為布氏硬度測試后的壓痕直徑測量設計。系統通過高清成像與算法識別，替代傳統人工顯微鏡測量，顯著提升檢測效率與數據一致性，適用于金屬材料硬度驗證、熱處理質量評估及批量產品質檢場景，是實驗室與工業現場的理想選擇。
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卓泰交直流兩用磁粉探傷儀ZT-12/220是一款基于電磁感應與磁粉顯像原理的高靈敏度無損檢測設備，專為鐵磁性材料表面及近表面缺陷檢測設計。設備支持交流（AC）與直流（DC）雙模式輸出，可適應不同工件形狀與檢測需求，廣泛應用于機械制造、航空航天、軌道交通等領域，是質量控制與設備安全評估的高效工具。
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卓泰筆式電磁超聲高溫測厚儀ZT-X1是一款基于電磁超聲（EMAT）技術的高精度便攜式測厚設備，專為高溫、粗糙表面或強腐蝕環境下的金屬材料厚度檢測設計。設備采用非接觸式電磁超聲換能原理，無需耦合劑即可實現快速測厚，適用于石油化工、電力、冶金等行業，是設備安全監測與腐蝕評估的高效工具。
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鄭州卓泰檢測設備有限公司是一家專注于光學檢測設備研發與生產的高新技術企業，其推出的臺式三目倒置金相顯微鏡4XC-TV，憑借卓越的性能和人性化設計，成為材料分析領域的重要工具。該設備集光學成像、數字處理與精密機械于一體，可廣泛應用于金屬、陶瓷、半導體等材料的微觀組織觀察與缺陷檢測，為科研與工業質量控制提供可靠支持。
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箱式化學氣相沉積系統采用爐體和智能控制一體化設計，整個爐體美觀、大方。PID可編程序智能控溫，移相觸發，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷循環系統，爐門底部升降，節能安全?；瘜W氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積薄膜材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數金屬材料和金屬合金材料、二維材料等，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。
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定制流化床CVD系統，由真空立式管式爐、供氣系統、真空系統、真空測量系統組成。該系統以硅碳棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和30段程序控溫儀表，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，爐管兩端用不銹鋼法蘭密封，不銹鋼法蘭上安裝有氣嘴、閥門和壓力表，真空泵接口，具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點。該立式CVD管式爐廣泛應用于半導體工業中沉積薄膜材料，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數金屬材料和金屬合金材料、二維材料等
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該系統是一個特殊的雙管CVD系統,是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計,特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究。爐底部裝有滑軌，可通過滑動爐子可以實現物料的快速加熱和冷卻。該cvd高溫爐廣泛應用于半導體工業中沉積薄膜材料，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數金屬材料和金屬合金材料、二維材料等，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。
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KJ-T1200-S60K-4C型四路高溫真空CVD設備由KJ-T1200滑動式快速退火管式爐+真空系統+供氣系統組成 ，最高溫度可以達到1200度，極限真空可以達到10-3Pa，供氣系統是流量調節可以是質子流量計，可以對多種氣體進行準確的混氣，然后導入到管式爐內部?？焖偻嘶馉t爐管兩端安裝真空法蘭，真空度用分子泵可以到10-5Torr，機械泵可到10-3Torr。爐底安裝一對滑軌，可用手動滑動。加為取得最快加熱，可以預先加熱爐子到設定的溫度，然后移動爐子到樣品位置。為獲得最快冷卻，可在樣品加熱后移動爐子到另一端，是低成本快速熱處理的理想爐子。
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該設備由蒸發器、混合器和反應器組成。采用氧化鋁纖維耐火材料。設備技術成熟、質量可靠，溫場均勻，結構合理，30段可編程溫控系統，氣路選用液晶屏觸摸界面，使得操作異常簡單、方便設置各項技術參數。該CVD高溫爐廣泛應用于半導體工業中，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數金屬材料和金屬合金材料等的鍍膜，該CVD鍍膜設備可在目標材料表面形成密集的HfCl4涂層.適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環?？茖W等領域。
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KJ-T1200 CVD是一種管式爐，配備100mm直徑石英管、真空泵和五通道質量流量計氣體流動系統。 它可以混合1-5種氣體用于CVD或擴散。該CVD高溫管式爐主要用于大學，科研機構和生產企業進行氣相沉積相關的實驗與生產。
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KJ-CVD 是一種分體式管式爐，配備 60mm 直徑的石英管、真空泵和四通道質量流量計氣體流動系統。 可混合1-6種氣體進行CVD?？頒VD生長系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。
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該高溫化學氣相沉積系統的工作溫度為300℃至1600℃，配備真空泵，氣體混合裝置。采用溫度控制系統，高溫精度，出色的氣體流量精度，易于操作，出色的隔熱效果和溫度均勻性。 主要用于大學，科研機構和生產企業進行氣相沉積相關的實驗與生產。
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