工作原理
MP-2通過電機驅動磨盤/拋光盤旋轉,試樣通過夾具固定并與盤面接觸。粗磨階段使用砂紙或金剛石磨盤去除表面氧化層,精磨階段換用細粒度磨料消除劃痕,拋光階段采用絨布與拋光液實現鏡面效果。設備支持三級轉速調節(低/中/高速),適配不同材料硬度與制備階段需求。
應用范圍
廣泛適用于冶金、機械制造、航空航天、地質勘探等領域,可完成金屬試樣(如鋼、鋁、鈦合金)的金相組織觀察、非金屬夾雜物分析、涂層厚度測量等前處理任務,同時支持高校材料教學與科研機構的基礎研究,尤其適合需要批量制備試樣的實驗室場景。
產品技術參數
磨盤/拋光盤直徑:Φ200mm(標配)
轉速范圍:50-1000rpm(三級可調)
加載方式:手動/自動(可選配氣動加載)
冷卻系統:內置循環水槽(帶排水口)
電源:220V±10% 50Hz
防護等級:IP54(防塵防濺)
尺寸:450mm×380mm×320mm
重量:28kg
產品特點
三級變速控制,適配粗磨(低速)、精磨(中速)、拋光(高速)多階段需求
模塊化設計,磨盤/拋光盤快速更換,支持同時處理不同試樣
智能冷卻系統,循環水槽降低盤面溫度,避免試樣過熱變形
人機工程學操作面板,數字顯示轉速與時間,支持定時啟停
安全防護罩設計,防止磨料飛濺,符合CE安全標準
集成試樣夾具,適配Φ20mm-Φ50mm圓形試樣,支持多試樣同步制備