遼寧有色金屬冶金設備

大型立式真空高壓固溶時效成套設備（直管、盤管） 374     

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主要用于電力能源領域、航空航天領域鎳基高溫合金管及馬氏體不銹鋼管等產品的退火、正火、回火及時效處理等;也用于奧氏體不銹鋼管、鐵鎳基耐蝕合金管及高溫合金管等管棒材的固溶處理，能夠實現真空高壓氣淬、真空回火、真空退火及消除應力等熱處理工藝。

真空超高溫超高壓爐（氣壓） 379     

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真空超高溫超高壓爐主要用于粉末成型、預織成型工件的脫脂，也可用于高溫加壓燒結、浸滲增強、晶體轉化生長、化合反應等工藝，采用電阻加熱。

真空超高溫超高壓爐(機械加壓） 396     

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真空超高溫超高壓爐(機械加壓）主要用于在一定溫度、壓力下，兩個和兩個以上表面之間的原子級擴散連接，產品應用于能源、航天、航空等領域。

專用脫脂燒結爐（注射成型MIM） 311     

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專用脫脂燒結爐（注射成型MIM）主要用于鐵基、不銹鋼、鈦合金、合金鋼和高速鋼等材料的注射成型制品的脫脂和燒結。

真空燒結爐（氧化鋁粉） 312     

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真空燒結爐（氧化鋁粉）主要用于氧化鋁粉、特種陶瓷、高純氧化鋁塊、超純氧化鋁餅在保護氣氛下的連續燒成 。

真空高溫燒結爐（碳碳、碳碳-碳陶復合材料） 359     

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真空高溫燒結爐（碳碳、碳碳-碳陶復合材料）主要用于碳/碳復合材料、碳/碳-碳/陶復合材料的高溫石墨化、高溫提純處理。

真空高溫燒結爐（碳化硅、氮化硅） 334     

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真空高溫燒結爐（碳化硅、氮化硅）主要用于SiC陶瓷制品的反應燒結、無壓燒結、重結晶燒結、熱等靜壓燒結，也可用于氮化硅等其他陶瓷制品的燒結。

真空高溫燒結爐（石墨提純） 330     

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真空高溫燒結爐（石墨提純）主要用于石墨制品等的高溫石墨化、高溫提純處理。

真空鎢網爐/連續生產線 （電力能源燃料芯塊） 320     

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真空鎢網爐/連續生產線 主要用于電力能源燃料芯塊及燃料小球、燃料大球的燒結處理。

真空燒結爐（碳納米管） 283     

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真空燒結爐（碳納米管）主要用于制備大型納米碳材料，如碳納米管粉、碳納米管薄膜和定向碳納米管制備。

真空燒結爐（電池負極） 295     

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設備結構緊湊、升溫速度快、密封性能好、爐膛溫度均勻性高，擁有高性能的燒結效果、現代化的外型設計和簡單便捷的操作功能。

真空高頻感應釬焊爐 294     

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主要用于航空發動機帶直通接頭、三通接頭、馬鞍座接頭及彎頭等機構導管組件的惰性氣體保護感應釬焊。

真空熱壓爐（擴散焊） 381     

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主要用于在一定溫度、壓力下，兩個和兩個以上表面之間的原子級擴散連接，產品應用于核能、航天、航空等領域。

真空鋁釬焊爐 318     

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鋁及鋁合金葉輪、散熱器、波導器件、汽車冷凝器等產品的真空釬焊處理，廣泛應用于汽車、電子、國防、航天、航空領域。

真空水淬爐 390     

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真空水淬爐主要用于45#鋼及鋁型材等的真空水淬處理。

真空高溫釬焊爐 318     

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主要用于不銹鋼、銅合金、高溫合金、鈦合金、硬質合金、金屬陶瓷等材料的真空釬焊，適用釬料為鎳基、銅、銀基等。

真空自耗電極電弧爐 566     

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產品應用：采用壓制或感應爐熔煉的原料錠棒為電極，在真空或保護氣氛下通過電弧高溫熔煉或重熔該電極原料的真空冶金精煉設備。用于鈦及鈦合金、鋯等活潑金屬材料重熔提純。技術參數：型號HVAR/M(生產型)HVAR/S(實驗型)HVAR/C(連鑄型)

SIT MOSFET高頻感應加熱設備 426     

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SIT MOSFET高頻感應加熱設備采用先進的半導體技術，工作頻率范圍為50-300kHz，額定功率30-200kW，冷卻方式為水冷。這種設備利用高頻電磁感應原理，通過在金屬工件中產生渦流實現快速加熱，具有加熱速度快、效率高、能耗低的特點。

1600℃高溫箱式實驗熱處理爐 446     

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SSJ-Ⅱ型1600℃高溫箱式實驗熱處理爐是一種在冶金領域中應用廣泛的設備，它能夠在最高使用溫度1600℃的條件下進行工作。該設備采用硅鉬棒作為發熱元器件，具有快速的溫控速率，能在室溫至1600℃的條件下在60分鐘內達到所需溫度，同時保持溫控精度在±2℃。這種精確的溫度控制能力對于進行高溫燒結、金屬退火、化工、冶金、陶瓷等多個領域的實驗和生產至關重要。

1300℃箱式實驗熱處理爐 448     

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SSJ-13A型1300℃箱式實驗熱處理爐是一種為冶金領域設計的高效熱處理設備。該爐能夠滿足最高使用溫度1300℃的需求，采用硅碳棒作為發熱元器件，確保了設備在高溫下的穩定性和可靠性。溫控速率在室溫至1300℃的條件下不超過40分鐘，而溫控精度達到±2℃，這使得該設備能夠精確控制加熱過程，滿足不同材料和工藝的需求。此外，該設備的額定功率為8kw，工作電壓為380V，這些參數使得設備在工業應用中具有較高的能效比和操作便利性。

200kg真空感應熔煉爐 400     

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200kg真空感應熔煉爐是一種先進的冶金設備，它在真空條件下利用中頻感應加熱原理進行金屬的熔化。這種設備廣泛用于金屬和合金的冶煉、鑄造和重熔等工藝。該設備采用旋轉錠模托板，一爐可澆鑄多個錠子，適用于銀基、鎳基合金、特殊不銹鋼等在真空或保護氣氛下進行熔化、精煉。

高頻等離子設備 484     

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高頻等離子感應加熱設備是一種利用真空管式高頻振蕩器在輸出工作線圈上產生較強的高頻、高壓電磁場的設備。這種設備使定向流經工作線圈內的氬氣、氧氣、氮氣、壓縮空氣迅速電離點燃后形成高溫等離子火炬，亦稱射頻等離子炬，其核心溫度可達20000℃。在冶金領域，高頻等離子設備廣泛應用于耐高溫石英玻璃沉積、制備難熔金屬納米粉體，氧化物、氮化物、碳化物等納米粉體及上述粉末的球化處理，同時也應用于多晶硅的區熔、拉伸等工藝。設備功率范圍從8KW到200KW，頻率則在1MHZ到6MHZ之間。

水冷銅坩堝熔鑄設備 339     

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水冷銅坩堝熔鑄設備是一種高功率冶金設備，專為鈦鋁金屬間化合物的真空熔化和鑄造設計。該設備配備300KW的IGBT電源，利用先進的真空自耗及凝殼熔煉技術，能夠制備出大尺寸、無缺陷、無裂痕的鈦鋁基金屬間化合物，且冷卻速度可控。通過鑄錠電磁冷坩堝結晶器的使用，該設備能夠調控鑄錠的冷卻速度，從而獲得成分均勻、無明顯裂紋和晶粒細小的優質鈦鋁金屬間化合物基合金方形鑄錠，顯著提升材料的性能。

IGBT電源 581     

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IGBT電源是一種高性能的感應加熱設備，廣泛應用于冶金及熱處理領域。其工作頻率范圍為10-50kHz（超音頻）和1-10kHz（中頻），額定功率30-300kW，采用水冷方式確保高效穩定運行。該設備能夠實現較深層淬火、釬焊、透熱等工藝，適用于各類金屬工件的熱處理及熔煉，為冶金加工提供高效、節能、精準的加熱解決方案。

電弧等離子體金屬納米粉制備系統（實驗型） 457     

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在冶金實驗領域，精準、高效的納米金屬粉體制備是探索新材料性能與工藝的關鍵。實驗型電弧等離子體金屬納米粉制備系統為冶金研究提供了理想的解決方案。該設備能夠制備納米級金屬粉體，涵蓋稀土材料在內的絕大多數金屬，且對原材料形貌尺寸無限制，突破了傳統冶金實驗方法的局限。其由高真空獲得與測量系統、粉體制備系統、粉體收集系統及電氣控制系統組成，高真空機組采用復合分子泵及機械泵，制備室極限真空度可達≤5.0×10?3Pa，收集室極限真空度≤8.0×10?3Pa，為冶金實驗中的粉體生成提供穩定的真空環境，確保粉體的純度和質量。

電弧等離子體金屬納米粉制備系統（生產型） 403     

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在冶金行業，納米金屬粉體材料的應用前景廣闊，而電弧等離子體金屬納米粉制備系統正是為滿足這一需求而誕生的先進生產型設備。該設備以卓越的冶金工藝為基礎，能夠高效批量制備納米級金屬粉體材料，涵蓋稀土材料在內的絕大多數金屬，且對原材料形貌尺寸無限制，展現出傳統冶金制備方法難以企及的優越性。其高真空獲得與測量系統、粉體制備系統等六大組成部分協同運作，其中高真空機組采用復合分子泵、羅茨泵、機械泵組合，為冶金過程中的粉體生成提供穩定的真空環境，確保粉體質量與性能。

冷水機 326     

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LC350型冷水機是一款專為工業應用設計的循環冷水機，包括冶金領域。該設備以其高效能和穩定性能，適用于各種需要精確溫度控制的環境，如金屬熱處理、焊接、切割以及其他需要冷卻的工藝過程。在冶金行業中，LC350型冷水機可用于控制和維持生產過程中所需的恒定水溫，從而確保產品質量和生產效率。

高真空熱壓爐 428     

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高真空熱壓爐是冶金領域中一種關鍵的粉末冶金設備，專門用于粉體材料的熱壓成型。這種設備通過在高真空環境下對粉末材料施加高溫和高壓，實現材料的致密化和成型，廣泛應用于制造高性能的金屬、陶瓷和復合材料等。高真空熱壓爐的工作原理和精確控制能力使其成為制備先進材料的重要工具，尤其在需要材料具有高強度、高硬度和優異耐磨性的應用中。

放電等離子燒結系統（SPS） 444     

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放電等離子燒結系統（SPS）是一種高效的材料制備技術，它通過在較低溫度下實現快速燒結，為致密材料的制備提供了一種新穎的方法。這種系統在材料科學領域，尤其是在納米技術、非晶材料、復合材料和梯度材料的制備中，展現出了巨大的應用潛力。SPS技術的應用不僅限于傳統材料的加工，還有可能開發出性能更加優良的新材料。

高真空磁控濺射離子鍍膜設備 439     

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高真空磁控濺射離子鍍膜設備是一種在現代冶金和材料科學領域中不可或缺的先進工具。該設備通過在高真空環境下進行磁控濺射或多弧離子鍍膜，能夠制備出高質量的薄膜材料，廣泛應用于各種工業和科研領域。設備的主要功能包括高真空獲取與測量、樣品或工件的精確放置與運動控制、磁控靶或多弧源的靈活選擇以及輔助鍍膜工藝的集成。