高真空磁控濺射離子鍍膜設備
高真空磁控濺射離子鍍膜設備是一種在現代冶金和材料科學領域中不可或缺的先進工具。該設備通過在高真空環境下進行磁控濺射或多弧離子鍍膜,能夠制備出高質量的薄膜材料,廣泛應用于各種工業和科研領域。設備的主要功能包括高真空獲取與測量、樣品或工件的精確放置與運動控制、磁控靶或多弧源的靈活選擇以及輔助鍍膜工藝的集成。
一、 設備主要功能及組成
1. 設備主要由高真空獲得與測量系統、樣品臺或工件轉架系統、磁控靶或多弧源系統、輔助鍍膜工藝系統及電氣控制系統等五部分組成。
2. 高真空機組采用分子泵機組或離子泵機組。
3. 樣品臺或工件轉架系統可根據工藝需要靈活定制所需功能。
4. 多種磁控靶及多弧源可選,全部模塊化設計,標準接口法蘭。
5. 輔助鍍膜工藝系統可根據需要靈活搭配。
6. 可選配膜厚控制儀,進行在線測量和監控。
7. 電氣控制系統具有多種報警功能,能及時提示故障情況,保障設備安全運行。
二、 主要技術參數
1. 真空室尺寸:?450、?540、?650、?750、?1000、?1200(定制)
2. 極限真空度:≤6.7×10-5Pa(分子泵機組)/ ≤5.0×10-6Pa(離子泵機組)
3. 漏率:≤10-7 Pa?L/s
4. 可選磁控靶:1.5英寸~3英寸圓形靶 / 矩形單靶、中頻孿生靶 / 非標磁控靶
5. 磁控靶電源:直流源 / 13.56MHz射頻源 / 中頻源
6. 可選多弧靶(小弧源):Arc60 / Arc100 / 非標
7. 輔助鍍膜裝備:霍爾離子源、線性陽極層離子源、輝光清洗靶
8. 可選偏壓電源:-200V偏壓電源
9. 樣品臺:可在線升降、旋轉、水冷、襯底加熱
10. 工件轉架:三軸聯動(公轉、自轉、單樣品自轉),增強鍍膜均勻性,可加熱
11. 可選配工藝系統:手套箱工作站、樣品預處理室、自動樣品庫等
12. 供電電源:380V 50Hz(三相五線制)
13. 進水排管徑:DN25
14. 工作水壓:0.2Mpa