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無坩鍋真空電極感應熔煉惰性氣體霧化制粉設備（EIGA）是一種先進的冶金設備，專門用于在無坩堝、無導液管的工況下，通過感應熔煉將鈦合金等金屬材料熔化，并利用高壓惰性氣體將其霧化成高質量的球形粉末。該設備采用非限制式漩渦環形噴射環縫噴嘴，通過高速氣流擊碎金屬液流，形成球形度高、粒度可控、氧含量低的金屬粉末。其制備的粉末具有高純度、高附加值的特點，廣泛應用于3D打印、粉末冶金等領域，尤其能滿足3D打印對金屬粉末球形度高、粒徑分布窄、氧含量低的嚴格要求。
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深過冷懸浮熔煉實時觀測系統是一種先進的冶金實驗設備，采用高真空無坩堝懸浮熔煉技術，能夠在深過冷環境下對合金的晶體生長、固化和成核過程進行實時觀測。該系統由真空室、懸浮熔煉系統、測溫及數據處理系統、高速攝影系統等組成，具備高真空度（極限真空度6×10??Pa）和高精度測溫（800~3000℃）功能。其無坩堝單線圈感應懸浮熔煉方式可避免坩堝對材料的污染，適用于鋁、銅、鎳、鐵等金屬材料，能夠懸浮樣品尺寸范圍為φ2mm×2mm至φ16mm×16mm。該系統在冶金領域具有重要應用價值，可用于開發高純度、高活性的新型功能材料。
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葉片類高真空高溫定向凝固爐是一種先進的冶金設備，集合金熔煉、澆注、模殼雙區保溫、定向凝固等多功能于一體，專為單晶高溫合金的定向凝固而設計。它通過高真空環境和高溫條件，結合高速凝固法（HRS）與液態金屬冷卻法（LMC）等定向凝固技術，以及籽晶法和選晶法等單晶制備工藝，能夠在凝固過程中實現高溫度梯度和穩定的晶體生長條件，從而精準地制備出高溫合金、鈦鋁合金葉片類及異型件的單晶或定向凝固柱狀晶零件。該設備既適用于實驗研究，也可用于小規模工業示范研究，是冶金領域中用于高端材料制備的重要裝備。
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試棒類高真空高溫定向凝固爐是一種專為冶金及材料科學領域設計的高性能設備，主要用于制備單晶高溫合金試棒和定型凝固柱狀晶合金試樣。該設備采用液態金屬冷卻（LMC）的布里奇曼凝固技術，能夠在高真空環境下進行定向凝固，確保材料的純凈度和晶體質量。通過籽晶法，該設備能夠精確控制晶體生長方向，適用于高熔點材料（如金屬間化合物）的試棒類零件制備。其高真空環境和精確的溫度控制能夠顯著提升材料的性能和質量，是實驗室和工廠進行材料研究、開發及質量控制的理想選擇。
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水冷銅坩堝感應熔煉澆鑄爐是一種先進的冶金設備，廣泛應用于陶瓷材料、鋯及不銹鋼合金等材料的熔煉和澆鑄。該設備采用水冷銅坩堝，通過感應加熱技術在真空或保護氣氛下進行熔煉，能夠有效避免坩堝材料對金屬熔體的污染，確保熔煉產品的高純度。其感應熔煉過程利用電磁力使熔融金屬懸浮，確保熔煉過程中金屬成分均勻，同時減少了雜質的混入。
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水冷銅坩堝感應熔煉澆鑄爐是一種先進的冶金設備，廣泛應用于鈦、鋯等活潑金屬及其合金的熔煉提純與離心鑄造。該設備采用水冷銅坩堝，通過感應加熱的方式在真空或保護氣氛下進行熔煉，避免了傳統陶瓷坩堝對金屬的污染，能夠生產出超純凈、高品質的產品。其感應熔煉過程利用電磁力使熔融金屬懸浮，確保熔煉過程中金屬成分均勻，同時減少了雜質的混入。這種爐子特別適用于對金屬純度和性能要求極高的材料，如航空航天、國防軍事等領域所需的高純金屬和難熔合金。
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真空感應熔煉澆鑄爐是一種先進的冶金設備，廣泛應用于金屬材料的真空或保護氣氛下的感應加熱熔煉、脫氣、提純、合金化及鑄造。該設備能夠根據熔煉材料的不同，選擇金屬、陶瓷或石墨坩堝，以滿足多樣化的工藝需求。其澆注方式包括普通翻轉澆注和離心鑄造，能夠靈活適應不同的鑄造要求。在冶金領域，該設備特別適用于對金屬純度和性能要求較高的材料，如鈦合金、鋁合金、鎳基合金等的熔煉和鑄造，能夠顯著提升材料的質量和性能。
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高真空擴散焊爐是一款專為精密連接厚度小于0.1mm金屬薄膜而設計的高端設備。該設備采用Ф700×800mm雙水冷圓筒臥式前開門不銹鋼結構，極限真空度可達8.0×10??Pa（空載），在200℃和1000℃時分別為6.7×10??Pa和6.7×10?3Pa。其工作方式為高溫加壓，加壓范圍50Kg~4000Kg，分度為10Kg。極限溫度為1800℃，工作溫度1700℃可連續運行24小時，采用3段程序控溫，均溫區Ф300×300mm，壓頭溫差控制在±5℃/1700℃和±2℃/1000℃。
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條紋變像管電極退火爐是一款專為真空電子器件的真空除氣處理、焊接及特殊封接工藝設計的高性能設備。其單工位立式不銹鋼雙層水冷結構，下蓋電動升降裝樣，操作便捷。采用自動/手動控制方式，分子泵正常工作后40分鐘內可將爐內真空度提升至10?3~10??Pa，系統漏率低至1×10??Pa·L/s。真空泵組由進口干泵和分子泵組成，噪音低于40分貝。最高加熱溫度可達1300℃，常用溫度范圍500℃~1200℃，溫度均勻性±3℃，控溫精度±1℃。爐內容積為Ф400×500mm，采用三區加熱、獨立測溫控溫方式，配備低電壓大電流加熱電源。
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鐘罩真空釬焊退火爐是一款專為真空電子器件的真空釬焊、退火及除氣工藝設計的高性能設備，廣泛應用于冶金及材料科學領域。該設備采用Ф500×700mm（內部尺寸）的立式全不銹鋼鐘罩結構，具備優異的真空性能，極限真空度可達6×10??Pa，工作真空度在啟動分子泵30分鐘后可達到10??Pa。其加熱系統設計先進，極限溫度可達1200℃，常用工作溫度為1100℃，溫度均勻性為±5℃，有效區測溫精度為±1℃，確保了加熱過程的穩定性和均勻性。
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真空敏化爐在冶金工業中扮演著重要角色，其應用范圍廣泛，效益顯著。這種爐型主要用于在真空環境下進行金屬及其合金的熔煉和精制，包括真空蒸餾、礦石及其半產品的真空分離，金屬化合物真空還原、鋼液爐外真空脫氣和精煉、金屬真空熔鑄、真空燒結，真空熱處理、真空釬焊及真空固態接合等多種工藝方法。真空環境在冶金過程中具有一系列的特點，如物質與殘余氣體分子間的化學作用十分微弱，適宜對黑色金屬、稀有金屬，超純金屬及其合金、半導體材料的熔煉和精制。
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采用有坩堝底鑄式真空感應熔煉及惰性氣體霧化法制備金屬及金屬合金的微晶或非晶球形粉末。適用于高溫合金、特殊鋼、銅合金、鋁合金等材料的粉體研發與制備。
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在高真空環境下充入高純惰性氣體，將預制合金棒通過爐外升降旋轉機構送入爐內錐型感應線圈內感應加熱熔化，束流熔滴直接流入特制的霧化器噴嘴系統，利用高壓惰性氣體進行霧化制粉的成套設備。具有無坩堝材料污染，粉體球型度高等優點。采用電極感應熔煉和惰性氣體霧化技術可以制備超純金屬粉末。
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真空熱處理釬焊設備是一種專用于金屬材料高真空熱處理及真空釬焊的先進設備，廣泛適用于不銹鋼、鈦及鈦合金、高溫合金等零件的真空退火、回火、消除應力處理以及真空除氣等工藝。設備采用立式底裝料結構，有效容積可根據客戶需求定制，提供800℃、1350℃、1600℃三種最高設計溫度可選。其極限真空度優于5×10??Pa，壓升率低至≤0.27Pa/h，確保高真空環境下的穩定處理效果。全金屬加熱室設計，溫度均勻性優于±5℃，符合航空行業標準HB5425。
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真空熱壓及加壓燒結設備是一種用于金屬及非金屬陶瓷高溫熱壓成型的先進設備，具備多種顯著特點和優點。其有效容積可根據客戶需求定制，最高設計溫度有1350℃、1600℃、2200℃三種可選。壓機噸位范圍為50T-630T，滿足不同燒結壓強要求。設備采用高精度壓力控制PID調節，極限真空度優于5×10?3Pa，壓升率≤0.67Pa/Hr。加熱和加壓過程實現全自動控制，全金屬或石墨加熱室溫度均勻性優于±5℃。
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超高真空退火爐是專為金屬薄膜和金屬絲的退火與還原處理等熱處理工藝實驗設計的設備，具備極限真空8x10??Pa和工作真空8x10??Pa（在1000℃退火溫度下）的性能指標，確保在高溫下維持高真空環境。該爐采用中400x400(mm)立式柱狀雙水冷不銹鋼結構，能夠實現常溫至1500℃的溫度變化范圍，具備程序控溫和高精度控溫能力，均溫區尺寸為Ф80x120(mm)。系統由真空抽氣機組、真空室、測量系統、加熱控溫系統、電動升降系統、氣路系統、液氮冷阱及臺架等組成，并通過計算機實現控制，滿足長時間高溫處理需求。
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TH-1000臥式真空退火爐專為高溫合金的光亮退火和真空除氣設計，具備5x10??Pa的極限真空度和Ф200x1100(mm)的真空室結構，確保高效處理。最高加熱溫度可達1000℃，均溫區Ф150x600(mm)內溫度偏差小于±2℃，加熱至850℃僅需不到2小時。設備采用外加熱方式，配備多路熱電偶以維持精確的溫度控制。主要由真空室、測量、抽氣、加熱及電控系統組成，滿足高精度熱處理需求。
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真空退火爐是一種臥式結構的高效熱處理設備，具備不銹鋼雙層水冷真空爐體和前門觀察窗。其系統空載極限真空度可達≤8x10??Pa，工作真空度在800℃時保持≤1x10?3Pa，泄漏率不大于1x10??Pa/L·s。分子泵能在30分鐘內將真空度降至1x10?3Pa，壓升率控制在0.67Pa/h以內。最高加熱溫度可達1300℃，工作爐溫范圍為600℃至1250℃，溫度均勻性為±4℃，測溫精度±1℃，升溫速度和降溫速率可控。該設備采用導電智能控溫表，確保精確的溫度控制。
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高真空管式氮化爐是一種臥式管式外加熱爐，集成了抽氣系統和手套箱系統，安裝在可移動臺架上，便于操作。該爐具備出色的真空性能，系統極限真空度可達7×10??Pa，工作真空度為5×10?3Pa，漏率僅為1×10??Pa·L/s。加熱溫度范圍從室溫至450℃，樣品表面溫度可達250℃，均勻區軸向長度250mm，控溫精度為±10℃。配備5KW偏壓電源，電壓最大2kV，脈沖頻率40~60KHz可調，并具有多重保護功能。手套箱設計便于樣品處理，氣路系統可控制N?、Ar氣體流量，整個系統還配有冷卻循環水裝置和斷水斷電聯鎖保護，確保安全穩定運行。
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高真空加熱裝置是一種先進的材料處理設備，具備優異的真空性能，極限真空度可達<6.7x10??Pa，漏率優于1.0x10??Pa·L/s，采用分子泵+干泵的抽氣機組，提供快抽和慢抽兩種方式。裝置配備316L不銹鋼制成的真空罐體，內部尺寸至少為直徑中50mmx100mm，加熱爐內最高加熱溫度達800℃，控溫精度為±1℃，且外殼溫度低于200℃。此外，裝置還具備氙氣循環降溫系統，保護罐體密封口，以及包含真空機組控制、真空度和溫度顯示及系統聯鎖保護功能的電控系統。
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該真空管式爐具備優異的真空性能，系統極限真空度可達到優于3.0×10??Pa，而系統漏率僅為1.0×10??Pa·L/s，這保證了爐內能夠在極低的氣壓下進行高溫處理，適合對材料進行精密的熱處理工藝。這些真空指標對于確保材料處理過程中的高質量和高純度至關重要，如陶瓷基板的退火和真空燒結等應用。
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