工作原理
BEM2000W采用倒置式設計,物鏡位于載物臺下方,可兼容大尺寸、厚截面金屬試樣。設備通過鹵素燈或LED光源提供照明,光線經聚光鏡聚焦后穿透試樣,由物鏡捕捉微觀組織影像,再通過三目鏡筒或數碼攝像頭傳輸至顯示屏。其核心光學系統支持明場、暗場及偏光觀察,配合平場消色差物鏡(5×-100×)與高眼點目鏡(10×-16×),總放大倍數達1600倍,可清晰呈現晶粒邊界、夾雜物分布及相結構特征。
應用范圍
該設備覆蓋多場景金屬材料分析需求:
材料研發:觀察合金相變過程、晶粒細化效果及熱處理組織演變;
質量控制:檢測鑄件、鍛件中的縮孔、裂紋及非金屬夾雜物;
失效分析:分析斷裂件、腐蝕件的微觀缺陷成因,輔助改進工藝;
教學科研:支持金屬學、材料科學等專業實驗教學及課題研究。
技術參數
載物臺:行程50×50mm,支持機械移動與旋轉定位;
物鏡組:標配5×、10×、40×、100×(油鏡)平場消色差物鏡;
光源系統:12V/50W鹵素燈或低發熱LED模塊,亮度可調;
圖像采集:可選配CMOS/CCD數碼攝像頭,支持實時圖像傳輸與存儲;
軟件功能:集成金相分析模塊,可自動評級晶粒度、非金屬夾雜物及球化率。
產品特點
大樣品兼容性:倒置結構突破傳統顯微鏡對試樣尺寸的限制,可直接觀察培養皿或大型金屬塊;
高精度成像:無限遠光學系統與多層鍍膜鏡片結合,消除色差,提升圖像銳度;
操作便捷性:載物臺配備防滑手柄與粗/細調節旋鈕,支持單手精準定位;
安全防護:內置紅外感應模塊,無人操作15分鐘后自動關閉電源,延長設備壽命。