設備介紹
KJ-T1200大口徑CVD管式爐是一種具有60mm直徑石英管,
真空泵和三通道質量流量計氣體流動系統的可拆分管式爐。 它可以混合1-3種氣體.該系列化學氣相沉積系統用于CVD或擴散包括大范圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料、二維材料等,如
碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。也可用于:真空燒結、真空氣氛保護燒結、
納米材料制備、
電池材料制備等多研究領域。
產品優勢
雙層殼體上開啟結構
雙層殼體上開啟結構,取放爐管方便,裝有風冷系統,爐子外殼溫度保持安全范圍內
30段高精度可編程溫控
控溫系統采用PID方式調節,30段高精度數字可編程溫度控制器
觸屏操作簡單快捷
采用觸屏操作系統,數據可存儲可通過EXCEL輸出
技術參數
型號 KJ-T1200-CVD
顯示 液晶顯示屏
第一部分 管式爐部分
爐膛 分體式和上部可以打開
最高工作溫度 1100°C
加熱速率 建議:0~10℃/ min
加熱溫區 500mm(其他尺寸可根據客戶需求定制)
加熱元件 鉬電阻絲
溫度控制精度 ±1℃
爐管尺寸 外徑200mm *長度1200mm
(其他尺寸可根據客戶需求定制)
溫度控制器 30段高精度數字可編程溫度控制器
第二部分 混氣系統
流量計 LCD觸摸屏
更多規格可根據需求定制