金屬材料的頂鍛試驗方法是金屬材料在室溫或熱狀態下沿試樣軸線方向施加壓力，將試樣壓縮，檢驗金屬在規定的鍛壓比下承受頂鍛塑性變形的能力并顯示金屬表面缺陷。主要用來研究金屬材料在大量生產模壓件時的質量狀況，以便針對缺陷情況而作相應改進。YQA-Z系列PLC控制全自動快速頂鍛試驗機，是在原有老耕田號試驗機上更新設計的新型頂鍛試機，采自動控制試樣壓扁高度的原理替代原來用標典強假墊塊做試驗的方式(延用原微機控制電子萬試驗機的工作原理及技術)。

據BNAmericas網站最新消息，英美資源集團在秘魯運營的克拉維科(Quellaveco)銅礦在今年上半年交出了一份穩健的成績單，銅產量實現6%的同比增長，展現出良好的運營態勢。盡管受智利地區產量下滑影響，集團整體銅產量有所下降，但Quellaveco銅礦的出色表現無疑為集團增添了一抹亮色。

Ionic的全資子公司Ionic Technologies近期宣布提高了英國貝爾法斯特工廠的重稀土產量，特別是高純度氧化鏑（Dy2O3）和氧化鋱（Tb4O7）。這一舉措旨在滿足國防、先進制造和可再生能源領域對高性能永磁體日益增長的需求。隨著美國、英國和歐洲等西方國家對這些關鍵材料的需求加劇，Ionic的增產計劃顯得尤為重要。

倫敦上市基金Gore Street儲能公司（GSF）簽署協議，出售其美國加州200MW/400MWh Big Rock電池儲能項目的投資稅收抵免（ITC）。連同此前已售Dogfish項目，兩筆交易稅后共8400萬美元。收益分階段到賬：今年秋季前可收75%，余款年底結清。首批資金可把項目已提用貸款由6600萬降至4400萬美元，降低杠桿率和利息支出，并為2025年下半年向股東派發每股3便士特別股息創造條件。本次交易采用《通脹削減法案》2022年新增的“抵免可轉讓”機制，雖無折舊優惠，但流程更簡捷 。

光伏龍頭企業晶澳科技近日與菲律賓新能源企業Advance Prime Power Corporation簽署戰略合作協議，雙方將在菲律賓及東南亞市場共同推進光伏項目開發，加快區域清潔能源轉型。

微機控制電液伺服萬能試驗機C型機這是一種結合了液壓巨大出力能力和現代精密電控技術的先進材料試驗設備。其核心特征是微機控制、電液伺服技術和C型框架結構。

1.實驗室認可概述；2.CNAS 文件體系；3.實驗室認可流程及要求

青島迪凱以技術創新驅動行業升級，新研發的UHPC行星式攪拌機在攪拌過程中采用行星攪拌模式，UHPC超高性能混凝土物料在攪拌筒內被強制進行多形式攪拌運動，在保證物料的原始組分不變的情況下，實現物料更加均勻的攪拌混合，大大保障了UHPC超高性能混凝土攪拌物料的勻質性。

奧地利公用事業Verbund選定儲能集成商Fluence在德國投建92MW/186MWh雙站電池儲能項目，選址萊茵蘭-普法爾茨州50MW/100MWh與薩克森州42.9MW/86.5MWh，噪音控制和網絡安全是遴選關鍵。項目或采用Gridstack Pro方案，已遞交詳盡噪聲評估。Verbund計劃2030年前儲能達到1GW，現德國已有110MW/130MWh；Fluence當地累計裝機逾750MW。德國因輔助服務收益高、電池價跌，正成歐洲最大儲能市場，數吉瓦時項目密集落地，區域“電網中立”概念亦受關注。

荷蘭公用事業Eneco與捷克EPH合資，將在鹿特丹Europoor發電廠內建50MW/200MWh電池儲能，2027年投運，由Enecogen運維，EP NL和Eneco交易部門負責調度。此舉彰顯Eneco深耕本土市場的決心，但公司仍呼吁政府效仿比利時、德國，給予電池儲能免電網費優惠，以加快裝機、緩解缺電與阻塞，并降低碳排放。

墨西哥礦業巨頭Grupo Mexico最新財報顯示，第二季度凈利潤同比增長10%至12.3億美元。受惠于采礦成本降低及銅副產品業務表現良好，該公司維持全年108萬噸銅產量的預期目標。

丹東奧龍射線儀器集團有限公司推出的多模式X射線層析成像CT，是一款集高精度三維成像與多模式檢測于一體的先進無損檢測設備。它通過斷層掃描技術重建物體內部結構，廣泛應用于工業檢測、材料科學、地質勘探等領域，為復雜部件的內部質量分析與缺陷定位提供可視化解決方案。

等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)是一種利用輝光放電(等離子體)反應生成含有氣態物質的薄膜的薄膜生長技術。該系統由高功率射頻電源、真空系統、管式爐組成，配備噴淋塔、活性炭箱，滿足尾氣處理的需要。該設備是為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，反應氣體在輝光放電等離子體中能受激分解、離解和離化，從而大大提高了反應物的活性

該CVD管式爐適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、材料的氣氛燒結等實驗。主要用于大學，研究中心和生產企業進行氣相沉積相關的實驗與生產。

這款CVD管式爐廣泛用于樣品在真空和氣氛條件下的燒結、涂層、納米管研究、釬焊、退火等實驗，適用于高校、研究機構實驗室和工礦企業進行CVD工藝的科研和實驗。

主要用于稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等工業真空燒結、保護氣氛燒結、CVD實驗、真空沉積、材料成分測定場合。

該設備適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結等實驗。主要用于大學，研究中心和生產企業進行氣相沉積相關的實驗與生產。

這款CVD爐可用于碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結等實驗。

適用于粉體材料的表面薄膜沉積，在超大規模集成電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的應用。

PECVD等離子氣相沉積設備是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜, 該系統主要用于金屬粉末鍍膜。