超高分辨肖特基場發射掃描電子顯微鏡

工作原理

設備基于電子束與樣品相互作用原理：肖特基場發射電子源產生高亮度、低能散的電子束，經電磁透鏡聚焦后掃描樣品表面。電子束與樣品原子碰撞產生二次電子（SE）、背散射電子（BSE）及特征X射線等信號。SE探測器捕捉表面形貌信息，BSE探測器反映成分對比度，EDS（能譜儀）通過X射線能量分析實現元素定性定量檢測，最終合成高分辨率圖像與成分數據。

應用范圍

適用于材料科學（納米材料形貌觀察）、半導體行業（芯片缺陷分析與工藝優化）、生物醫學（細胞/組織超微結構解析）、地質學（礦物晶體結構表征）及質檢領域（失效分析）。尤其適合需要滿足ASTM E986、ISO 15901等標準的場景，助力科研突破與產品質量控制。

產品技術參數

電子源：肖特基場發射槍（Schottky型），束流穩定性≤0.1%/h

分辨率：1.0 nm（15 kV，SE模式），1.5 nm（1 kV，SE模式）

加速電壓：0.5~30 kV（連續可調）

放大倍數：20×~1,000,000×

探測器：SE/BSE雙探測器、EDS能譜儀（可選）

樣品臺：五軸自動樣品臺（X/Y/Z/旋轉/傾斜，移動范圍≥50mm）

真空系統：三級真空（高真空≤1×10?? Pa，低真空適配導電/非導電樣品）

尺寸/重量：主機1800×1200×1500mm / 2000kg（含控制柜）

產品特點

肖特基發射源與超高分辨率：Schottky型場發射槍提供高亮度電子束，1.0 nm分辨率可清晰解析納米材料細節（如量子點、碳納米管），1 kV低壓模式下仍保持1.5 nm分辨率，適配生物樣品無損傷觀察。

多模式與成分分析：集成SE/BSE成像與EDS能譜檢測，支持形貌-成分關聯分析；可選配EBSD（電子背散射衍射）模塊，解析晶體取向與相分布，滿足材料科學全維度表征需求。

智能化操作：全自動樣品臺與參數優化功能，支持一鍵式成像與數據分析；國儀量子自主開發的SEM軟件集成三維重構、大數據處理與AI圖像識別模塊，提升研究效率。

耐用與低維護設計：肖特基發射槍壽命≥3000小時，真空系統采用無油渦輪分子泵，降低維護頻率；防振動設計適應實驗室環境，確保長期運行穩定性。

合規與擴展性：符合CE、RoHS及中國計量認證（CMA）要求，檢測報告具備法律效力；支持與FIB（聚焦離子束）系統聯用，實現“觀察-加工”一體化，適配前沿材料研究需求。