工作原理
設備基于精密機械定位與電學接觸技術:樣品固定于高精度載物臺(X/Y/Z軸移動范圍≥50mm),通過顯微鏡輔助觀察,手動或半自動調整探針臂位置,使鎢/鈹銅探針與樣品電極或測試點接觸。配合外部測試設備(如源表、網絡分析儀),可測量IV曲線、電容-電壓(CV)特性及射頻參數,實現器件電學性能的精準表征。
應用范圍
適用于半導體行業(芯片晶圓級測試、封裝器件驗證)、高??蒲校?a href="http://m.clinicabestdoctor.com/meet_show-348.html" target="_blank">納米材料電學特性研究)、光電領域(LED/太陽能電池性能分析)及質檢機構(器件失效定位)。尤其適合需要滿足JEDEC、AEC-Q100等標準的場景,助力半導體工藝優化與新材料電學性能評估。
產品技術參數
樣品臺尺寸:100×100mm(標準),支持擴展至150×150mm
定位精度:X/Y軸≤1μm,Z軸≤0.5μm(重復定位精度)
探針類型:兼容鎢針(直徑≤25μm)、鈹銅針及射頻探針(頻率≤67GHz)
顯微系統:長工作距離物鏡(放大倍數50×-500×),支持明場/暗場觀察
接口:BNC、SMA、Triax(適配不同電學測試需求)
電源:AC220V±10% 50Hz,功耗≤300W
尺寸/重量:主機800×600×500mm / 120kg(含控制單元)
產品特點
半自動與高精度定位:X/Y/Z軸手動微調結合電動粗調,平衡操作效率與定位精度(≤1μm),適配晶圓級樣品(如8英寸/12英寸)與小尺寸器件(如MEMS芯片)。
多探針與電學兼容性:支持4探針同時接觸(減少接觸電阻誤差),兼容直流、脈沖及射頻測試;內置低噪聲屏蔽設計,信號噪聲≤1nV,適配高靈敏度測量需求。
模塊化與擴展性:可升級溫控模塊(-40℃~300℃)、磁控模塊(磁場強度≤1T)及光學耦合模塊(適配激光激發測試),滿足復雜實驗條件。
耐用與低維護設計:全金屬機身結構,防振動設計適應實驗室環境;探針臂采用陶瓷材質,耐高溫與化學腐蝕,延長使用壽命。
用戶友好操作:集成觸控屏與軟件界面,支持探針位置記憶、自動校準功能;新手30分鐘即可掌握基礎操作,提升實驗效率。
合規與安全:符合CE、RoHS及半導體行業ESD防護標準,內置接地保護與過流保護功能,確保操作安全。