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GSL-1100X-50-LVT 是一款已通過CE認證的1100℃分體式真空管式爐. 標配內包含KF25 轉接口、 進口數顯真空計 、雙旋片機械泵 、 油霧過濾器,另外配有OMEGA 測溫儀及K 型熱電偶 一套, 可將K型熱偶從左端法蘭安裝于爐管內部從OMEGA測溫儀上讀取樣品實時溫度. 30段可編程溫度控制儀，可按不同客戶的實驗要求設置所需要的升溫速率，控溫精度±1℃.爐體在加熱過程中真空不能高于1E-2 Torr使用，否則容易造成爐管的損壞。
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混氣系統4路質子GSL-4Z是用于控制一種到四種的氣體流經真空密封的管式爐，這種氣體控制系統安裝在移動架內，管式爐可以放在移動架上面，氣體控制系統的前面板上有控制并顯示氣體流量的調節閥，可以用于CVD系統及退火爐，用來研究氣體環境對材料的影響，在半導體和集成電路工業、特種材料學科、化學工業、石油工業、醫藥、環保和真空等多種領域的科研和生產中有著重要的作用，廣泛應用于電子工藝設備，如擴散、氧化、外延、CVD、等離子濺射以及鍍膜設備、光纖熔煉、混氣配氣系統及其它分析儀器。
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高真空鉭加熱爐是高溫電阻加熱爐。以鉭為加熱元件，適用于高真空狀態下對金屬、非金屬及其化合物進行燒結、熔化，也可以對小型樣品進行真空釬焊的操作，如硬質合金、鎳基合金、粉末冶金、鎳鈷合金、合金鋼、不銹鋼、稀土釹鐵錋等。高真空鉭加熱爐極限工作溫度為2000℃，工作最高溫度1800℃，工作過程中的加熱速度可以通過溫控表進行設置，但升溫速度過快會使鉭爐膽的壽命會有所降低，為了延長爐子的使用壽命，推薦每分鐘的升溫速度為20℃，在500℃以下可以適當加快升溫速度。
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KSL-1700X-H2 是一款通過 CE 認證的高溫箱式爐，此款儀器專門針對于材 料在氫氣環境或惰性氣體環境進行燒結或是退火，其最高溫度可高達 1700℃。 KSL-1700X-H2采用氧化鋁纖維作為爐膛材料（爐膛尺寸為200 x 200 x 200 mm）， 以鉬絲作為加熱元件，爐體頂部密封板中嵌有冷卻水管，以保證儀器工作時的密 封性能。對需在惰性氣體或還原性氣體環境下燒結的材料（如熒光材料，鈦合金 等），KSL-1700X-H2 是一個非常好的選擇。
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雙管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-4-C4LVS是特殊的雙管CVD系統，是專為在金屬箔上生長薄膜而設計的，特別適用于新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究。本機可通過滑動爐體，實現快速加熱和冷卻。
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1200℃雙溫立式爐OTF-1200X-4-VT-II是雙溫區可垂直開啟式立式管式爐，其爐管直徑可制作為100mm，適合于在真空或氣氛保護環境下對樣品進行吊燒和淬火。爐體下端裝有一移動架，以便移動。
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2100℃高溫鎢加熱爐HVF-2100W-60適用于高真空狀態下對金屬、非金屬及其化合物進行燒結、熔化，也可以對小型樣品進行真空釬焊的操作，如硬質合金、鎳基合金、粉末冶金、鎳鈷合金、合金鋼、不銹鋼、稀土釹鐵錋等。2100℃高溫鎢加熱爐HVF-2100W-60工作過程中的加熱速度可以通過溫控表進行設置，但升溫速度過快對鎢爐膽的壽命會有所降低，為了延長爐子的使用壽命，每分鐘的升溫速度不宜超過40℃。
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1700℃箱式爐（36L）KSL-1700X-A4采用側開式爐門，以硅鉬棒為加熱元件，智能溫度調節儀和B型雙鉑銠熱電偶配套使用，對爐內溫度進行測溫調節和自動控制，最高工作溫度可達1700℃，與同系列其他型號相比，具有更大的有效爐膛。
2025年09月12日 ~ 14日 
2025年08月21日 ~ 23日 
2025年08月19日 ~ 21日 
2025年08月18日 ~ 20日 
2025年08月15日 ~ 17日 
