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高頻小型熔金爐是一種高效、節能且可靠的金屬熔煉設備，采用全固態IGBT變頻及功率調節技術，具備全方位的保護功能，如過流、欠水、過熱、過壓、短路和缺相保護，極大提升了設備的穩定性和安全性。設備配備多種顯示功能，包括電流、電壓和時間顯示，使工作狀態直觀可見，便于操作和維護。其超小體積、輕便重量和可移動性，占地不足1平方米，為客戶節省大量生產空間。此外，該設備支持100%全負載、24小時連續工作，尤其在加熱不銹鋼、銅、工業硅、鋁等不導磁物質時，融化速度快，材料元素燒損少，節能20%以上，顯著降低成本。
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高導熱薄膜石墨化爐是專為高導熱薄膜，尤其是聚酰亞胺（PI）薄膜的石墨化工藝而設計的專用設備。該爐利用中頻感應加熱實現快速升溫和高效率。其獨特的設計可確保整個爐腔內的溫度非常均勻。該爐采用雙層氧化鋁磚隔熱結構，可防止短路，具有出色的隔熱和防火性能，從而將熱量損失降至最低，并增強了設備的穩定性。它可以用一個電源靈活配置多臺電爐，通過接通電爐電源進行加熱和關閉電源進行冷卻，從而實現連續運行。電爐的每個水道都配有數字流量監控系統，確保電源柜內的全面保護。
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石墨化爐是用于生產電池負極材料的專用設備。它利用中頻感應加熱實現快速升溫和高效率。獨特的爐體設計可確保整個爐體具有極佳的溫度均勻性。雙層氧化鋁磚隔熱材料具有優異的隔熱性和耐火性，最大限度地減少了熱量損失，提高了設備的穩定性。該系統可通過多個電源和電爐連續運行，并可配置加熱和冷卻周期。先進的功能包括用于水流監測和保護的數字流量監測系統、高性能中頻接觸器以及全面的 PLC 水、電、氣自動控制和保護系統。
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超高溫石墨化爐利用真空或惰性氣體環境中的中頻感應加熱。感應線圈產生交變磁場，在石墨坩堝中產生渦流，從而加熱并向工件輻射熱量，使其達到所需的溫度。該爐主要用于碳材料、碳纖維材料和其他復合材料的石墨化和燒結。它由爐體、爐蓋、加熱傳感器、隔熱層、電極抽取裝置、水循環分配系統、真空系統、溫度控制系統等組成。電氣系統包括一個 60KVA、IGBT 晶體管中頻電源和水冷電纜，配有各種指示儀表和報警功能?？刂撇糠植捎?15 英寸觸摸屏和可編程控制器 PLC。
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電轉爐是一種以電為熱源的工業爐。它常用于各種材料的煅燒和干燥，包括磷酸鐵、磷酸鐵鋰、錳酸鋰、陰極石墨、三氧化鈷、陰極硅碳、氫氧化鋰、粉末除碳、氧化鋅、氧化鐵、氧化錳、稀土材料和有色金屬。該爐的特點是加熱速度快、能效高、經久耐用。它采用鎳基合金爐管，可承受高達 1100℃ 的連續工作溫度，確保了使用壽命和可靠性。此外，該爐采用優質碳化硅（SiC）加熱元件，可延長使用壽命并簡化維護。
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垂直管式爐是一種實驗室設備，用于在受控大氣條件下對材料進行高溫處理。它由一根垂直方向的石英管組成，石英管封閉在一個加熱室內，可以實現精確的溫度控制和均勻的熱量分布。這些爐子通常用于各種應用，包括熱處理、淬火、退火、晶體生長和化學氣相沉積（CVD）涂層。立式管式爐具有可編程溫度控制器、真空密封功能和用于樣品處理的專用附件等先進功能，為材料加工提供了多功能性和精確性。垂直管式爐能夠產生可控氣氛并達到高溫，是研發、材料科學和工業應用領域的重要工具。
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氫氣氣氛爐的結構采用了加熱室整體真空密封技術，隔熱室和加熱元件均內置在一個加強型真空室中，其結構類似于真空手套箱的設計，操作人員可使用真空泵將室內空氣吸盡，直至負壓為-0.1Mpa，然后將惰性氣體涌入室內，以達到良好的可控氣氛環境。KT-AH 型氫氣氣氛爐是一種感應氣體氣氛爐，可使用氫氣進行燒結或退火工藝。氫氣爐的絕緣材料為多晶陶瓷纖維，加熱元件為高純度鉬絲加熱器，爐內裝有氫氣安全泄漏檢測器和排放氫氣自動點火裝置。
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網帶式可控氣氛爐是一種可在露天和可控氣氛環境中工作的連續式生產爐。它主要用于厚膜電路、電阻器、電容器和電感器等電子元件的高溫燒結工藝。該爐采用精選陶瓷纖維加熱器，反應迅速，溫度均勻；采用輕質陶瓷纖維隔熱材料，能耗低；采用網帶傳動系統，傳動穩定；采用多獨立溫度熱區控制，調節靈活。它還可選配網帶超聲波清洗系統和中央計算機控制裝置。該爐可進行定制，以滿足特定的工藝要求，包括氣氛、溫度和產量。
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KT-PE16 傾斜旋轉式 PECVD 爐 PECVD 爐由一個 500W 射頻等離子源、一個雙區 TF-1200 管式爐、4 個 MFC 氣體精確控制單元和一個標準真空站組成。爐子的最高工作溫度可達 1600℃。工作溫度高達 1600℃，爐管為直徑 60mm 的 Al2O2 陶瓷管；4 通道 MFC 質量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為 1 臺 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力為 10Pa。
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KT-PE12 帶液體氣化器的滑動 PECVD 系統由一個 500W 射頻等離子源、一個 TF-1200 滑動爐、4 個 MFC 氣體精確控制單元和一個標準真空站組成。爐腔軌道滑動系統，可實現快速加熱和快速冷卻，可選配輔助強制空氣循環風扇，加快冷卻速度；可選配滑動自動工作裝置；最高工作溫度可達 1200℃。工作溫度最高可達 1200℃，爐管為一根直徑 60 毫米的石英管；4 通道 MFC 質量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為一臺 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力可達 10P。真空壓力可達 10Pa。
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KT-CTF14 多區 CVD 爐有 2 個加熱區，最高工作溫度可達 1200℃，爐管為直徑 60mm 的石英管；4 通道 MFC 質量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力可達 10Pa。真空壓力可達 10Pa。
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帶真空站的分體式 CVD 管式爐是一款多功能、高性能的實驗室設備，專為化學氣相沉積 (CVD) 應用而設計。它采用分體式爐腔，便于接觸反應樣品和快速冷卻。爐管由高溫石英制成，直徑為 60 毫米。該系統包括一個 4 通道 MFC 質量流量計，配有 CH4、H2、O2 和 N2 源氣體，可對氣體流速進行精確控制。真空站采用 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力為 10 Pa。帶真空站的分室 CVD 管式爐具有先進的功能和性能，是材料科學、半導體加工和其他領域各種研發應用的理想選擇。
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分體式多加熱區旋轉管式爐是一種高配置旋轉爐，具有 2-8 個獨立的加熱區，每個加熱區都有自己的熱控制器，可實現出色的溫度控制。它具有旋轉和傾斜功能，可無級調速和調節傾斜角度。該爐可在真空和可控氣氛環境下運行，是煅燒、干燥、高溫反應、熱處理和熱解等各種應用的理想之選。它的優點包括溫度分布均勻、能效高、熱控制精確、用戶界面友好以及可定制的設計選項。
2025年09月12日 ~ 14日 
2025年08月21日 ~ 23日 
2025年08月19日 ~ 21日 
2025年08月18日 ~ 20日 
2025年08月15日 ~ 17日 
