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防靜電布超聲波縫合機：又稱超聲波無線縫紉機，超聲波壓花機，超聲波花邊機，超聲波壓邊機，超聲波滾焊機等， 本機應用廣泛，本機使用功：可壓花、壓邊、焊切、裁剪、打孔、縫合、花樣車邊、裁切、分條、切孔、壓圓形、成形、印色、燙金、焊接、打折和補強、包焊金屬綫固定。
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濾芯束帶超聲波點焊機：本機又稱防塵濾芯束帶超聲波搭接機，超聲波搭接機，超聲波焊接機，超聲波焊接設備等，本機采用新一代數字化超聲波發生器;同時全系標配4.3寸內觸屏，配合自主開發的操作系統實現可視化操作和控制;分體式設計和水平調控系統的加入，滿足大多數現場焊接場景。
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這款鋁合金表面處理噴砂機主要是適用于金屬表面的的噴砂加工要求，清理外表的污垢，劃痕及其他雜物，使表面達到啞光狀態，同樣可以用于其他的鍛鑄件、焊接件、熱處理件、沖壓殲擊機加工件、電子件的外表除銹、去氧化皮表面光亮及獲得均勻的噴砂面和增加表面附著力或用于噴涂、電鍍、油漆前的預處理的工序。
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北京中航技氣動液壓設備有限責任公司鋁型材表面清理噴砂機特點如下：1、磨料循環使用，消耗低，效率高。2、配有除塵機組，有效控制粉塵的污染。3、配有觀察玻璃，更換方便。4、易損件數量少，維修、更換簡單。5、加工范圍廣，適用于規格中小型的零部件。
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DE400 熱阻蒸發儀可配置多組蒸發源，連續旋轉的樣品臺或可傾角自轉樣品臺。
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DE600CL 多電子槍蒸發鍍膜系統配置三（四或六）個電子束蒸發源，可在基片共蒸發金屬、半導體或介質材料。
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DE500P 電子束蒸發鍍膜系統配置兩個電子束蒸發源，可在基片共蒸發沉積金屬、半導體或介質材料。
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DE500CL 雙電子槍共蒸發鍍膜系統配置兩個電子束蒸發源，可在基片共蒸發沉積金屬、半導體或介質材料，是制備lift-off工藝薄膜和低微材料的理想平臺。
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DE400P電子束蒸發鍍膜系統配備電子束蒸發源或熱阻蒸發源，用于沉積金屬或介質薄膜及lift-off工藝薄膜沉積。用于批量生產。
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DE400DUL超高真空電子束蒸發鍍膜系統配置一個多坩堝電子束蒸發源，可在基片蒸發沉積金屬、半導體或介質材料，是制備lift-off工藝薄膜和低微材料的理想平臺。
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特點：用于中試和量產，多個濺射源，可濺射金屬、半導體、介質材料及磁性材料，可濺射單層膜、多層膜或共濺合金薄膜或反應濺射。
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DE600DL納米膜層磁控濺射系統配備多個磁控濺射源，可沉積金屬、半導體、介質材料. 可用于濺射多層薄膜、共濺合金薄膜、反應濺射、可選濺射楔形膜等。是材料和薄膜沉積研發和中試的理想平臺。
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DE500DL超導量子磁控濺射系統配備多個磁控濺射源，可沉積金屬、半導體、介質材料. 可用于濺射多層薄膜、共濺合金薄膜、反應濺射、LIFT-OFF工藝薄膜、隧道結薄膜等。是材料和薄膜沉積研發和中試的理想平臺。
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DE500DL納米膜層磁控濺射系統配備多個磁控濺射源，可沉積金屬、半導體、介質材料. 可用于濺射多層薄膜、共濺合金薄膜、反應濺射、可選濺射楔形膜等。是材料和薄膜沉積研發和中試的理想平臺。
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200標方PEM電解槽SHZP-200，氫氣產量：200Nm3/h，直流電耗：4.3kWh/Nm3，提純后氫氣純度：≥99.999%，適用工況：化工冶金、能源交通。
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2000標方堿性電解水制氫裝置SHZJ-2000，氫氣產量：2000Nm3/h，直流電耗：4.5~4.7kWh/Nm3，提純后氫氣純度：≥99.999%，適用工況：化工冶金、能源交通。
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SHZA4000GA四合一堿性電解水制氫裝置：氫氣產量：4000~4800Nm3/h，直流電耗：4.4kWh/Nm3，提純后氫氣純度：≥99.999%，適用工況：化工冶金、能源交通。
2025年09月12日 ~ 14日 
2025年08月18日 ~ 20日 
2025年08月15日 ~ 17日 
2025年08月10日 ~ 12日 
2025年08月08日 ~ 10日 
