北京有色金屬材料制備及加工設備

離子氮化爐 350     

 0

PulsPlasma? 離子氮化設備是一款用于等離子體擴散工藝的真空爐，它可使零件表面富含氮和/或碳，從而提高耐磨損和耐腐蝕能力。PlaTeG脈沖等離子體?擴散工藝，特別是PulsPlasma?脈沖離子氮化(PPNTM)和PulsPlasma?脈沖離子氮碳共滲(PPNCTM)應用了等離子體擴散方法，相比于傳統的氮化工藝(如鹽浴軟氮化或氣體氮化)，它為客戶提供了眾多優勢，而且對環境友好，有助于節約資源。

石墨純化爐和涂層爐 339     

 0

COV型真空爐，其特點在于加熱器和由石墨或碳碳復合纖維制成以及墨氈制成的隔熱層，是用于高溫工藝的電阻加熱批次爐系統。為氮化硼，碳化硅，氮化硅和熱解碳等應用提供非標定制CVD/CVI反應爐以及氟離子清洗 & CVA 爐。提供定制化陶瓷基復合材料的化學氣相沉積(CVD和CVI)交鑰匙系統和解決方案。

石墨電阻加熱真空熱處理爐 352     

 0

COV型真空爐能夠在設計、有效空間尺寸、真空和工作溫度方面按客戶要求定制，此類爐型是雙層水冷式爐殼，以及配備由石墨或碳纖維復合材料(CFC)制成的加熱元件。

金屬電阻加熱真空熱處理爐 341     

 0

PVA TePla公司MOV型真空爐是電阻加熱熱處理爐，加熱元件采用鉬或鎢等難熔金屬制成。熱量是通過輻射熱從加熱器直接傳輸到待處理產品中。MOV爐可完美應用于需要高純度和無碳爐內氣氛的通用熱處理工藝，要求苛刻的材料、以及制造及實驗室應用。

自動金相試樣磨拋機 364     

 0

YMPZ-2型自動金相試樣磨拋機是采用單片機控制的研磨拋光設備，機身采用ABS材料一體成形，外形新穎美觀，防腐蝕、經久耐用;牢固的大型支撐底盤設計確保了精密的回轉平衡度;磨盤無級調速或四檔調速，可切換旋轉方向;電機為直流無刷電機，使用壽命長且噪音低，強大的電機扭力帶來強大的動力;主軸防漏設計, 確保了幾乎不會損壞的軸承;配備冷卻水管，可調整旋轉方向進行濕磨;配備磨盤底部沖洗功能，防止磨削物累積沉淀;磨盤部分采用磁性設計，支持快速換盤，底盤和墊盤表面經特氟龍處理，無砂紙拋布黏連殘留;磨頭采用電動鎖緊裝置，具備定時功

單頭自動磨拋機 424     

 0

產品特點：*中心壓力、單點壓力兩種運行模式，可根據工況選擇適用的方式；*試樣夾盤可快速裝卸轉換，靈活使用不同口徑夾盤；

臺式磨平磨拋一體機 321     

 0

YMPZ-2B-300臺式磨平磨拋一體機是采用單片機控制的研磨拋光設備，雙盤獨立設計，左盤采用磁性盤設計，支持快速換盤，底盤和墊盤表面經特氟龍處理，無砂紙拋布黏連殘留;右盤采用砂輪系統，實現試樣的自動粗磨。機身采用ABS材料一體成形，外形新穎美觀，防腐蝕、經久耐用。

雙盤金相試樣磨拋機 413     

 0

YMP-2-300(250)型金相試樣磨拋機是采用單片機控制的研磨拋光設備，雙盤獨立控制，機身采用ABS材料一體成形，外形新穎美觀，防腐蝕、經久耐用;精密鑄鐵支撐底盤設計，確保了精密的回轉平衡度;電機為直流無刷電機，使用壽命長且噪音低，強大的電機扭力帶來強大的動力;磨盤無級調速，可切換旋轉方向，壓制鋁材質三點支撐結構，更加堅固平穩;配備磁性盤設計，支持快速換盤，底盤和墊盤表面經特氟龍處理，無砂紙拋布黏連殘留;主軸防漏設計, 確保了幾乎不會損壞的軸承;配備冷卻水管，可調整旋轉方向進行濕磨;電磁水閥控制，自動出水停水;顯示直

金相試樣預磨機 395     

 0

在金相試樣制備過程中，試樣的預磨是拋光前必不可少的前道工序，經過粗磨、細磨、精磨后的試樣，方可進行有效拋光。YM-1B型金相試樣預磨機是一款經典產品，外殼采用ABS材料一體成型，轉速可視化，配備濕磨用供水系統以防止因試樣過熱而破壞金相組織，它具有傳動平穩、噪音小、操作及維護方便等優點，適用于多種材料的預磨要求。

金相試樣切割機 303     

 0

QG-3金相試樣切割機適用于一般金相和巖相試樣材料的切割，通過拉動主軸利用主軸重力進行對試樣的切割，轉速高，切割能力強;雙邊夾具結構，牢牢固定試樣;夾具鉗口和工作臺面等主要零部件均采用不銹鋼材料制成，使用壽命長，維護保養方便;切割室采用封閉式結構，罩蓋左側開口，可切割長條型試樣，配備安全限位開關，透明有機玻璃窗口和內置LED照明燈供切割時觀察;并配備循環冷卻系統，切割后的試樣表面光亮、平整，無燒傷，是切割試樣的理想設備。本產品分為臺式和落地式，供客戶選擇。

自動精密研磨拋光機 346     

 0

UNIPOL-1202自動精密研磨拋光機是用于晶體、陶瓷、金屬、玻璃、巖樣、礦樣、PCB板、紅外光學材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、耐火材料、復合材料等材料的研磨拋光制樣，是科學研究、生產實驗理想的磨拋設備之一。本機設置了?300mm的研磨拋光盤和兩個加工工位，可用于研磨拋光≤?105mm的圓片或對角線長≤105mm的矩形平面。

熱蒸發鍍膜機 451     

 0

GKI-22熱蒸發鍍膜機是一種用于薄膜制備的高真空鍍膜設備，廣泛應用于材料科學、物理學、化學及電子器件等領域。該設備通過加熱蒸發源使材料氣化，并在基片上沉積形成薄膜，適用于金屬、有機物及無機化合物等多種材料的鍍膜。其核心部件包括高真空腔體、蒸發源、樣品臺、真空系統及膜厚監控系統，具備高真空度（極限真空度優于1×10?? Pa）和精確的膜厚控制能力。此外，設備還配備有觀察窗、旋轉樣品臺和多種蒸發源選擇，能夠滿足多樣化的實驗需求。

噴金儀 668     

 0

SSG-50M為了使電子顯微鏡中的樣品能夠成像，它們需要有導電性，通過在樣品上形成導電層的鍍膜，用來抑制電荷，減少熱損傷，并提高在SEM中定位檢查所需的二次電子信號。

HIPEX 80熱等靜壓機 5145     

 0

熱等靜壓(Hot Isostatic Pressing, HIP)是一種以氮氣或量氣等惰性氣體作為 溫度、壓力傳介質，將制件放置于密閉容器之中，在高溫(900?2000C)和高壓(100? 200MPa)的共同作用下，向制件施加各向同等的高溫和壓力，是高性能零件制備或處理 中不可或缺的一項技術。

高純鎳顆粒 2427     

 0

高純鎳顆粒是一種金屬顏料，其主要成分是金屬鎳，其中包括鎳粉和片狀鎳粉，前者通過蒸餾提取純鎳[Ni(CO)4]蒸汽分解，控制溫度，形成適當形狀的鎳粒，并用一氧化碳稀釋氣體助劑(氧和氮)控制其表面的氧含量，使其生成0.065%的高純度固定鎳粉，并通過適當的潤滑劑和液體介質，通過鋼球在球磨機上研磨出適當厚度的片狀鉆石工具鎳粉，介紹(金屬輪胎合金粉)：金屬鋸片、磨機、磨機、研磨機等產品質量的重要因素，以及金屬粉和鎳粉的重要因素。

高純鈷顆粒 1816     

 0

高純鈷顆粒是一種具有鐵磁性的硬灰色金屬。添加其他合金元素以形成鈷基合金，例如鈷基高溫合金和稀土鈷硬磁性合金。

高純單質金屬 2493     

 0

應用于高能物理、宇航技術、半導體材料、化合物半導體外延材料、太陽能電池、功能膜層、傳感器、科學研究等領域。為配合您的使用要求，可為您提供高純金屬粉末、顆粒、靶材、金屬絲、錠等規格，純度3N-7N，按您要求包裝。

鈷鉻鎳高熵合金（CoCrNi)等原子 2695     

 0

高熵合金高混合熵效應、遲緩擴散效應、晶格畸變 效應、多元素調和效應等賦予了高熵合金獨特的超級固溶體微觀結構，易形成單一固溶體相這一特征使得高熵合金表現出優異的性能：高硬度，良好的耐腐蝕性，良好的耐磨性；

ORZ材料低成本深度除油技術及裝備 3830     

 0

ORZ材料低成本深度除油技術及裝備采用自主研發的新型ORZ吸附材料對廢水（或 料液）進行除油處理，ORZ材料具有吸附容量大（3.2g/g）、容易再生、成本低的特點, 除油效果顯著。技術原理是當含油廢水/溶液流經ORZ材料時，利用ORZ材料與油類有機物之間的范德華力和自身具備的分子篩選功能，將溶液中的大分子有機物聚集到吸附材料上，實現油和水相的分離。吸附飽和的ORZ材料通過溶劑解吸再生后返回吸附除油系統，反復循環利用，降低除油成本，且無二次污染產生。