DE400 熱阻蒸發儀可配置多組蒸發源,連續旋轉的樣品臺或可傾角自轉樣品臺。
特點
可選可傾角和自轉基片臺
樣品臺可選水冷或加熱
可選手套箱
典型應用
用于薄膜沉積研發
LIFT-OFF工藝的理想平臺
可蒸發金屬,半導體、介質材料或有機材料
主要配置
真空閥門 高真空插板閥
蒸發源 多組熱蒸發源
樣品臺 連續旋轉的樣品臺或可傾角自轉樣品臺
膜厚檢測 晶振膜厚監控
真空測量 寬量程真空計
主要技術指標
極限真空度 優于5E-7Torr
基片尺寸 可選:2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
膜厚均勻性 優于+/-3%
蒸發速率分辨率 0.01 A/s
膜厚分辨率 0.1 A