設備介紹
滑道式PECVD系統由PT-1200T管式爐加熱系統、真空系統、質量流量計供氣系統、等離子射頻電源系統組成。借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。 該系統廣泛應用于沉積高質量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬質薄膜、光學薄膜和炭納米管(CNT)、
石墨烯材料等。
產品優勢
成品質量好
PECVD具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質量好、針孔較少、不易龜裂等優點
沉積效果好
等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜
智能多段PID可編程
溫控系統采用PID智能化程序控溫,自整定功能并可編制多段升降溫程序
技術參數
產品名稱 滑道式PECVD系統
滑軌管式爐部分
產品型號 KJ-T1200-S6044-LK-Z
加熱區長度 440mm(其他尺寸可根據客戶需求定制)
爐管直徑 直徑60mm(其他尺寸可根據客戶需求定制)
工作溫度 ≦1100℃
最高溫度 1200℃
測溫元件 N型熱電偶
溫控系統 PID微電腦可編程自動控制
控溫精度 ±1℃
溫控保護 具有超溫和斷偶保護功能
升溫速率 0-10℃/min
加熱元件 電阻絲
滑軌設計 能實現快速升降溫
爐膛材料 采用多晶纖維爐膛材料,材料保溫性能好、反射率高、溫場均衡
密封系統 該爐爐管與法蘭之間采用O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復撤卸,氣密性好
爐 管 高純石英管
法 蘭 不銹鋼法蘭,方便拆卸,放取材料
真空系統部分
名稱 高真空分子泵組
主要參數
真空泵極限真空度10-3 pa(包含KF25接口和可移動箱體)
氣路系統部分
名稱 四路質量流量計
氣路 四路
流量控制 每路氣體含有針閥單獨控制
流量計 質量流量計
等離子電源系統
匹配功率范圍 0-500W
工作頻率 13.56MHZ+0.005%
控制模式 手動/自動
售后服務 質保一年,終身保修(耗材類:高溫密封圈、爐管、加熱元件等不屬于質保范圍)