CVD-1200系統
關 鍵 詞:高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD/CVI實驗、材料制備、納米線生長、材料燒結
CVD-1200系統由開啟式單(雙)溫區管式爐、高真空分子泵系統、壓強控制儀及多通道高精度數字質量流量控制系統組成??蓪崿F真空達0.001Pa混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗。
型號:CVD-1200
品牌:上海鉅晶
發貨周期:1-5個工作日
接受訂制:可按要求定制
CVD-1200系統由開啟式單(雙)溫區管式爐、高直空分子眾系統、樂強控制儀及多通道高精度數字質量流量控制系統組成??蓪崿F直空達0.001Pa混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗。
主要功能和特點:
1、高真空系統由雙級旋片
真空泵和分子泵組成,最高真空可達0.0001Pa
2、可配合壓強控制儀控制氣體壓力實現負壓的精準控制;
3、數字質量流量控制系統是由多路質量流量計,流量顯示儀等組成,實現氣體的流量的精密測量和控制;每條氣體管路均配備高壓逆止閥,保證系統的安全性和連續均勻性。
4、采用KF快速法蘭密封,裝卸方便快捷;管路采用世界頂級Swagelok卡套連接,不漏氣;5、超溫、過壓時,自動切斷加熱電源及流量計進氣,使用安全可靠。
主要用途:
高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD/CV實驗,特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長、
電池材料干燥燒結等場所。