一種pecvd尾氣處理裝置
技術領域
1.本實用新型屬于尾氣處理技術領域，尤其涉及一種pecvd尾氣處理裝置。
背景技術：
2.半導體行業通常采用等離子體增強化學氣相沉積法制造減反射膜(例如氮化硅膜)，等離子體增強化學氣相沉積法簡稱為pecvd，其利用強電場，使所需的氣體源分子電離產生等離子體，等離子體中含有很多活性很高的化學基團，這些基團經過經一系列化學反應，在硅片表面形成固態薄膜。
3.目前沉積sin常采用的氣體有sih4、nh3和nf3等氣體，經過沉積膜后，會產生大量尾氣。尾氣處理時，先將尾氣通入加熱腔內進行燃燒，燃燒后產生大量顆粒和hf等，再通過噴淋將粉塵溶解在水里，并通過水泵抽走、而hf等氣體則通過管道排入廠務端。
4.但尾氣燃燒產生的大量顆粒難以溶解在水里，水泵抽出時，容易堵塞管道，而且管道中的hf和水蒸氣吸附在管道上時，會腐蝕管道，影響管道使用壽命。
技術實現要素：
5.有鑒于此，本實用新型的目的是提供一種pecvd尾氣處理裝置，解決現有技術尾氣燃燒產生的大量顆粒難以溶解在水里，水泵抽出時，容易堵塞管道，而且管道中的hf和水蒸氣吸附在管道上時，會腐蝕管道，影響管道使用壽命的問題。
6.本實用新型通過以下技術手段解決上述技術問題：
7.一種pecvd尾氣處理裝置，包括加熱腔、噴淋組件和水泵，所述加熱腔內設置有電子加熱棒，所述加熱腔一端設置有進氣管道，另一端設置有出氣管道，所述出氣管道的末端設置有u型管道，所述出氣管道與u型管道之間安裝有粉碎機，所述u型管道的一端與粉碎機連通，另一端連接有噴淋管道，所述噴淋管道的末端設置有反應組件，所述反應組件包括反應腔、輸入管道和輸出管道，所述輸入管道和輸出管道均與反應腔連通，所述反應腔內裝填有一水合氨，所述輸入管道的自由端與噴淋管道連通，所述u型管道底部設有連接管，所述水泵的進水口與連接管連通。
8.進一步，所述噴淋組件包括管體、第一噴淋件、第二噴淋件和第三噴淋件，第一噴淋件、第二噴淋件和第三噴淋件三者結構相同，第一噴淋件包括水管和噴頭，所述第一噴淋件的噴頭位于出氣管道內，所述第二噴淋件和第三噴淋件的噴頭位于噴淋管道內。
9.進一步，所述反應腔內設置有ph檢測儀。
10.進一步，所述輸出管道處設置有過濾箱，所述過濾箱上連通有排氣管。
11.進一步，所述粉碎機的上下兩端均設有水封接頭，所述水封
聲明：
“PECVD尾氣處理裝置的制作方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：威科賽樂微電子股份有限公司
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2025年07月24日 ~ 26日 
