本發明涉及廢水處理技術領域，特別是涉及一種含硅廢水的凈化方法。
背景技術：
硅是水體中的天然組分之一，其在水體中主要是以懸浮態、膠體態和溶解態的硅酸鹽形式存在。天然水體中根據地區不同，水中硅含量不同，地下水中硅含量相對較高。天然水中溶解硅主要以硅酸(h4sio4)的形態存在，h4sio4可以電離出h3sio4-、h2sio42-等。目前，對水中硅的去除主要集中在工業水處理領域，如鍋爐水、造紙、高含鹽廢水零排放等。目前除硅技術包括混凝沉淀法、離子交換法、膜分離法和阻垢劑法等。
混凝沉淀法是向含硅廢水中投加鎂劑、石灰、鐵鹽、鋁鹽等金屬氧化物或氫氧化物，利用金屬氧化物或氫氧化物對硅的吸附作用，達到對水中硅的去除。該方法是一種非深度除硅技術，通常硅的去除率在40％～60％之間?；炷恋矸ㄊ芩疁赜绊戄^大，一般在水溫大于40℃取得較好的除硅效果，同時藥劑消耗量大，污泥產量大，產水中除硅藥劑殘留量大。離子交換法屬于一種深度除硅技術，通過將不同的離子交換床聯合使用，不僅可以達到很好的脫鹽效果，也可以將硅深度去除。經過離子交換處理后，出水硅含量能達到1.0mg/l以下。但離子交換法無法去除水中的膠體類硅，僅對溶解硅有效果。另外，樹脂需要不斷再生以維持交換容量，同時容易受到膠體類硅的污染而失效，樹脂價格高昂，除硅運行成本高。膜分離法是利用超濾膜或反滲透膜的截留作用去除水中的硅。超濾膜對水中膠體硅有一定的截留效果，對溶解性硅沒有任何截留效果。反滲透膜對硅的截留率很高，平均在80％以上，一般能將反滲透產水中的硅控制在1.0mg/l以下。反滲透除硅適用于原水硅含量很小的深度除硅系統，并不適用于大量的廢水除硅。當原水中硅含量較高時，反滲透膜系統本身會硅結垢，嚴重影響產水量，且一旦結垢，難于清洗恢復，直接影響了反滲透膜的使用壽命。
技術實現要素：
基于此，有必要提供一種藥劑投加種類較少、藥劑投加量較低且二氧化硅的去除率較高的含硅廢水的凈化方法。
一種含硅廢水的凈化方法，包括以下步驟：
將含硅廢水的ph值調至7.5～9.5并進行均質均量處理，然后加入偏鋁酸鈉進行除硅反應15min～30min，并控制所述除硅反應的過程中ph值保持在7.5～9.5，再將經所述除硅反應后的含硅廢水進行混凝、絮凝、澄清和過濾，得到凈化水。
本發明含硅廢水的凈化方法有如下幾個優點：1、該工藝充分利用二氧化硅
聲明：
“含硅廢水的凈化方法與流程” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：內蒙古久科康瑞環?？萍加邢薰?nbsp;
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2025年07月24日 ~ 26日 
