在本發明的一個實施例中,說明了一種形成儲能設備的方法,其中,在電化學蝕刻浴中電化學蝕刻導電襯底的多孔結構的同時原位測量導電襯底的多孔結構,直到獲得預定值為止,此時可以從電化學蝕刻浴中移出導電襯底。在另一個實施例中,說明了一種形成儲能設備的方法,其中,測量導電多孔結構以確定導電多孔結構的儲能容量。隨后減小導電多孔結構的儲能容量,直到獲得預定儲能容量值為止。
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“克服疊層電容器中的偏差” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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