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2025中蒙“一帶一路”礦業領域國際合作論壇
第二屆關鍵金屬選冶與高純制程技術交流會
第六屆中國浮選大會
第二屆全國礦山化學品科技創新與應用交流會
第二屆中國微細粒礦物選礦技術大會

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第二屆(2025)有色金屬綠色冶金雁棲論壇(EMYQ)
第六屆全國火法冶金工藝技術與裝備交流會
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2025中國礦物加工大會（CMPC）
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2025全國碳納米材料制備與應用技術交流會
第四屆全國難熔金屬及硬質合金技術研討會
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2025全國煤化工科技創新與產業綠色發展論壇
第二屆有色金屬工業環境保護與減污降碳技術大會
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第七屆有色金屬分析檢測與標準化技術交流會
2025材料電子顯微表征技術湘江研討會
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第一屆礦產品采樣與制樣技術研討會
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2025鉛鋅產業市場研討會
2025綠色低碳鋼鐵行業關鍵技術交流會
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現場混裝炸藥在露天中小型礦山的研究與應用
吸附劑的結構設計與性能調控
有機助磨劑強化低品位菱鎂礦分選行為及機理研究
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堿金屬離子二次電池電極材料的結構設計及界面優化
鋁基復合材料晶內納米增強相的原位構筑及性能研究
仿向日葵多級微錐定向液滴調控及防冰應用
高熵能源材料
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基于催化界面工程的新污染物高效捕集與轉化技術
廢酸資源化處置利用概述
選擇性浸出—回收磷酸鐵鋰電池更有前景的方法

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譜育科技在有色行業元素分析檢測中的系列產品及應用

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高階芯片反向去層方法

1084 編輯：管理員來源：中冶有色網

2023-03-19 07:57:13

本發明公開了一種高階芯片反向去層方法，所述的高階芯片為45nm芯片，其特征在于，所述的高階芯片包括基板以及自下而上制備于所述基板上的金屬層，所述的金屬層包括第一層金屬層、第二金屬層、第三金屬層、第四金屬層、第五金屬層、第六金屬層、第七金屬層和第八金屬層，采用干法蝕刻方法自上而下依次蝕刻所述第八金屬層、第七金屬層、第六金屬層、第五金屬層、第四金屬層、第三金屬層、第二金屬層和第一金屬層。通過上述，本發明采用干法刻蝕可避免芯片接觸化學溶液，不會造成芯片的金屬層大面積擊穿，保留金屬層的完整，可以保證上層金屬去除后能完整的保留下一層整層的金屬且兩層金屬間的金屬線可以清楚呈現，可以有利于后期電路分析。

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聲明：

“高階芯片反向去層方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發明人(作者)

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化學分析

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報告下載

1 礦產品能力驗證計劃中樣品的選取

下載:140

2 取、制樣安全淺析

下載:132

3 取、制樣現狀及未來規劃/需求

下載:108

4 自動化樣品制備助力準確高效的礦

下載:99

5 樣品變質引起采制樣和結算問題

下載:97

6 淺談質量檢驗管理風險防控的重點

下載:96

7 用于X熒光分析的樣品前處理及其

下載:93

8 礦產品人工取樣方案的制定及案例

下載:93

9 不均勻樣品給第三方檢測機構和貿

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10 非常規礦產品取制樣方法的探討

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