本發明公開了一種發光材料Cu2(etmp)4及合成方法。發光材料Cu2(etmp)4的分子式為:C44H44Cu2N16O8,分子量為:1052.05, Hetmp為3?乙氧基水楊醛縮?4?氨基?1, 2, 4?三氮唑希夫堿。將0.056g?0.112g分析純3?乙氧基水楊醛縮?4?氨基?1, 2, 4?三氮唑希夫堿和0.040?0.080g分析純乙酸銅混合,溶于5?10mL分析純N, N’?二甲基甲酰胺溶液中,攪拌20分鐘后加入分析純乙腈5?10mL,繼續攪拌20分鐘后,室溫下靜置3天后,得到Cu2(etmp)4。Cu2(etmp)4在301nm的入射光照射下產生153.3a.u.強度的465nm的熒光;在900V的光電倍增管,3倍的放大系數下,過硫酸鉀溶液中,產生了850a.u.強度且穩定的發光。本發明工藝簡單、成本低廉、化學組分易于控制、重復性好且產量高。
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