本發明屬于分析化學技術領域,公開了一種鈾濃度的分析方法。該方法包括:(1)測量空白溶液在連續能量X射線照射下的透射譜,得到不同能量下鈾溶液的入射光強度I0;(2)配制鈾標準溶液并分別用步驟(1)所述的X射線照射,測量透射譜,得到各個鈾標準溶液在LIII吸收邊兩側不同能量下的透射光強度I;(3)計算出鈾標準溶液在LIII吸收邊兩側不同能量下的透射率T;(4)做出鈾標準溶液LIII吸收邊兩側lnln(T)~ln(E)的線性關系曲線并得到LIII吸收邊處低能側透射率T1和高能側透射率T2;(5)求出鈾的質量吸收系數突躍值Δμ;(6)將待測樣品的ln(T1/T2)代入公式(4),得到待測樣品的濃度。本發明提供的方法操作簡單、準確度高、操作成本低且能有效避免雜質干擾。
聲明:
“鈾濃度的分析方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)