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            氯硅烷殘液生產HCl氣體的方法

            1085   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
            2023-03-19 03:31:20
            本發明公開了一種氯硅烷殘液生產HCl氣體的方法,屬于多晶硅行業氯硅烷殘液資源化的領域。本發明采用攪拌反應釜和吸收塔連用的方式,氯硅烷殘液在攪拌反應釜中水解,殘液水解產生的H2、HCl氣體和未反應完全的SiCl4、SiHCl3、SiH2Cl2揮發氣,經過吸收塔充分吸收后,99%以上的氯以氯化氫的形式被吸收下來,尾氣堿洗后達標排放,吸收塔吸收液進入攪拌反應釜作為殘液水解反應吸收劑,濃鹽酸經解析產生的HCl氣體可回到三氯氫硅的合成工序,解析后的稀鹽酸又作為本發明系統的吸收劑,實現了氯的資源循環利用。本發明實現了氯硅烷殘液中氯的有效回收和資源化利用,減少進入后續污水處理裝置的氯離子的量,降低工廠廢水處理成本。
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            “氯硅烷殘液生產HCl氣體的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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