光學電子行業專用鋯鋁復合研磨微粉及其制作方法,由電熔氧化鋁、硅酸鋯兩種主要原材料,經球磨、水洗、分級、復配、表面涂覆、過濾、噴霧干燥、過篩制作而成,含量復配的比例為:氧化鋁顆粒含量為30-50%,硅酸鋯顆粒含量為70-50%;本發明的產品具有顆粒形狀搭配合理,粒度分布窄,中位徑穩定,基本粒徑比例高,無大顆粒,無超細顆粒,顆粒間潤滑性優良的性能,特別適應光學電子行業高新技術產品的研磨、拋光。
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