1.本發明涉及廢水處理工藝技術領域，尤其涉及一種適用于集成電路、液晶面板等電子設備制造領域、且廢水中含有四甲基氫氧化銨(tmah)的廢水處理系統及方法。
背景技術：
2.四甲基氫氧化銨在集成電路、液晶面板、印制電路板等電子行業中廣泛用作顯影劑。tmah廢水具有強堿性，是有毒性的含氮有機廢水。
3.現有技術中，授權公告號為cn113501621a，名稱為《一種顯影液廢水處理系統》的中國發明專利公開了一種系統，該系統主要由厭氧微生物分解反應池和膜分離池組成；授權公告號為cn111285547a，名稱為《一種顯影液廢液處理方法》的中國發明專利公開了一種系統，該系統主要由ph調節、混凝沉淀、濃度調配、厭氧生化、氨吹脫與酸吸收等單元組成。由于tmah有毒性，微生物很難對其進行降解，因此該方案不能降解tmah廢水。
4.授權公告號為cn20790417u，名稱為《一種tmah廢液處理系統》的中國實用新型專利公開了一種系統，該系統按照工藝流程依次包括氣浮裝置、鐵碳微電子裝置、芬頓氧化裝置、ph調節裝置、a2o-mbr裝置等處理單元進行廢液處理。經過仔細分析，現有技術公開的該種系統具有以下缺陷：
5.1、工藝流程處理單元過多，系統過于復雜，處理成本較高；
6.2、芬頓氧化系統要投加大量的鐵鹽，會產生大量污泥，工藝流程占地面積大；
7.3、鐵碳微電子工藝要投加大量的硫酸亞鐵，處理后的水中鐵離子含量超標；
8.4、鐵碳微電子裝置反應時間長，處理效率低。
9.現有技術處理該廢水通常是將tmah廢水和其他有機廢水混合，采用生化法進行處理，由于tmah有毒性，微生物很難對其進行降解，因此現有的技術方案不能降解tmah廢水，處理后的尾水中仍然會含有tmah，會增加環境污染，危害人體健康。
10.因此，針對上述技術問題，本領域的技術人員亟需研發一種對tmah廢水降解效率高、系統構成簡單、反應時間短、占地面積小、對環境無二次污染、且便于工業化大規模推廣和應用的處理方法。
11.紫外線高級氧化技術一般是通過紫外線uv活化水中氧化劑產生自由基，將水中化學性質穩定的有機物最終礦化為co2、h2o及其它無機小分子物質，或將難降解的有機物氧化為易生物降解的小分子有機物。其中常見的氧化劑有雙氧水h2o2、臭氧o3、過單硫酸鹽pms(hso
5-)、次氯酸鈉naclo和氯胺nh2cl等。
聲明：
“含有四甲基氫氧化銨的廢水處理系統及方法與流程” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：世源科技工程有限公司
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2025年07月24日 ~ 26日 
