本發明公開了一種真空測量裝置控制系統及半導體加工裝置,真空測量裝置控制系統包括真空測量裝置、真空獲得裝置,真空測量裝置通過電源供電,真空測量裝置與電源之間連接有監控復位電路;當真空測量裝置向真空獲得裝置發出的開關信號失效時,監控復位電路對真空測量裝置進行一次斷電、上電的復位過程,對于真空規由于環境因素波動引起的瞬間故障,能夠通過復位過程排除,避免造成分子泵的頻繁起停,增強了機臺的可靠性和在線故障診斷性能。
聲明:
“真空測量裝置控制系統及半導體加工裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)