本發明公開了一種薄膜厚度和折射率的光學測量方法及其裝置。將寬帶光源出射的光通過干涉結構,產生干涉信號,再探測干涉信號的光譜信息,并將光譜信息進行傅立葉變換,即可得到產生干涉信號的二光路的光程差信息。在折射率已知的情況下,以同種方式在一個干涉臂中放置樣品后再測一次,比較這兩次光程差信息即可薄膜厚度。若折射率未知,需將薄膜旋轉一個角度,進行第三次測量來計算出獲得薄膜的折射率和厚度。本發明采用光學方法,對樣品是無損的,分辨率為微米量級,測量范圍可達到毫米量級。另外樣品不要求嚴格貼附在樣品臺上,同時信息處理方法簡單,對于透明或半透明薄膜可以方便實時地得到其厚度和折射率信息。
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