本發明書提供了一種通過測量多個角度反射譜 來同時獲得薄膜等效折射率和厚度的設備和方法。該設備簡 單,測量方便。該方法是根據入射光在空氣-薄膜-襯底的界 面處兩次反射會發生干涉,其干涉現象會從反射譜上表現出 來。因此只要測得兩個不同入射角θ1和θ2含有干涉信息的反射譜R(θ1,ω)和R(θ2,ω),采用薄膜反射率公式同時擬合這兩個反射譜,得到相應的光程差Δ1和Δ2,根據折射定律,聯立兩個方程就可以得出薄膜的等效折射率n及物理厚度d。與傳統方法不同的是該方法可以同時、方便、無損地測出薄膜的等效折射率和厚度,甚至可以用于鍍膜過程的實時監控與在線檢測。
聲明:
“測量光學薄膜等效折射率及物理厚度的設備和方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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