本發明公開了一種圖形結構的制造方法,包括步驟:步驟一、涂布光刻膠;步驟二、進行灰度曝光和顯影形成光刻膠條形的具有高度逐漸變化的分布結構的光刻膠圖形結構;步驟三、進行刻蝕將各光刻膠條形的高度逐漸變化的分布結構轉移到各第一工藝層條形上;步驟四、形成第二工藝層;步驟五、進行化學機械研磨工藝形成由填充于溝槽中的第二工藝層和溝槽之間的第一工藝層條形組成第二圖形結構;各第一工藝層條形的高度逐漸變化的分布結構在化學機械研磨工藝中抵消化學機械研磨工藝所產生的侵蝕。本發明能減少化學機械研磨工藝對圖形結構產生磨損,使圖形結構對比清晰結構完整,圖形結構能為光刻標識,從而能提高對準精度和量測準確度,提高工藝可靠性。
聲明:
“圖形結構的制造方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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