本發明為一種可即時補償研磨曲面的控制系統,用于一化學機械研磨機臺中,該化學機械研磨機臺包含有至少一第一環狀區域以及一第二環狀區域,一設有一研磨墊的研磨平臺,一至少包含有二分別對應于該第一、第二環狀區域的內、外圈并用來承載一待研磨晶圓的晶圓載座設置于該研磨墊上方,以及一研磨液供應裝置;該控制系統包含有至少一第一感測器以及一第二感測器,分別設置于該第一、第二環狀區域上,以及一控制單元,用以依據該第一、第二感測器的信號以及一預設的程序來分別調整該第一、第二環狀區域的研磨液供應量以及該晶圓載座的內、外圈的施力量;本控制系統可即時校正誤差,進而得以更加精確地控制研磨均勻度,改善產品良率。
聲明:
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