本發明公開了一種基于納米刻蝕的日盲紫外增透膜,屬于薄膜技術領域,包括以下步驟:(1)選取紫外級熔石英(JGS1)作為基底;(2)基底清洗;(3)真空蒸發鍍膜法鍍第一層膜;(4)納米刻蝕法優化第一層膜;(5)真空蒸發鍍膜法鍍第二層膜;(6)納米刻蝕法優化第二層膜;(7)真空蒸發鍍膜法鍍第三層膜;(8)納米刻蝕法優化第三層膜;(9)冷卻后檢驗包裝。本發明的日盲紫外增透膜選取適合紫外波段的氟化物,在真空蒸發鍍膜法的基礎上結合納米刻蝕法,減小膜面缺陷密度,適合依賴整個紫外波段的探測器,具有優良的化學穩定性。
聲明:
“基于納米刻蝕的日盲紫外增透膜” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)