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            > 具有等離子體共振散射響應的納米孔芯片的制備方法

            具有等離子體共振散射響應的納米孔芯片的制備方法

            946   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
            2023-03-19 08:08:39
            本發明具有等離子體共振散射響應的納米孔芯片的制備方法,其步驟包括:⑴芯片基材的選擇,選擇硅片為基材,在硅片正面沉積絕緣材料,反面沒有絕緣材料;⑵利用濕法刻蝕法在硅片反面刻蝕正方形區域,直到納米孔芯片薄膜在這一面裸露;⑶納米孔刻蝕,利用聚焦離子束或聚焦電子束轟擊納米孔芯片薄膜,在納米孔芯片薄膜上形成納米小孔;⑷貴金屬修飾,利用磁控濺射儀使納米孔芯片薄膜表面鍍上一層貴金屬層。本發明的制備方法步驟簡單,尺寸可控,成本較低;通過在納米孔上的貴金屬修飾,制備了一種同時具有光電響應納米孔芯片,該納米孔芯片能發生等離子體共振耦合現象,從而對光譜信號產生放大作用,可用于納米孔電化學檢測的較多領域。
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