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            > 含有氣體供應的等離子體光譜學系統

            含有氣體供應的等離子體光譜學系統

            986   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
            2023-03-19 07:36:07
            用于樣品的光譜化學分析的光譜學系統包括用于生成作為光譜源的微波誘導等離子體(90)的等離子體噴槍(50)。等離子體形成氣體是可含有氧氣雜質的氮氣。因此該系統包括氮氣生成器(70),較佳地從壓縮機(75)向其供給經壓縮的大氣空氣以通過吸附從空氣中去除氧氣。本發明允許使用單側氮氣生成器,由于不需要獲得瓶裝高純度氣體的供應所以節省了成本。
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            “含有氣體供應的等離子體光譜學系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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