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            離子注入機

            981   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
            2023-03-19 07:33:29
            本發明屬于半導體器件制作技術領域,是一種多晶硅薄膜晶體管離子注入機。本發明包含有真空室,抽氣裝置,氣路部分,電控制器。本發明的氣路部分通過配氣截止閥同真空室連接,向真空室運送所要注入的氣體。抽氣裝置通過角閥和閘板閥同真空室連接,利用真空泵使真空室保持一定的真空度。電控制器連接所有的用電部件,作為本發明的電源。本發明采取離子通量注入的方式,省去了現有技術中質量分析系統、離子束聚焦和掃描系統,因此結構簡單,而且可以大面積的離子注入。在抽氣裝置上增加大排量機械泵,使本發明可以用作化學氣相淀積PECVD和等離子刻蝕。
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            “離子注入機” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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            化學分析
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