本發明提供一種濕式蝕刻機臺的清洗裝置,包括:化學槽、水洗槽、擋板以及基板傳送通道,其中,所述擋板上連接有振動馬達,所述基板傳送通道下方設有傳感器,當所述傳感器檢測到第一片所述玻璃基板的前端通過所述基板通道到達預設位置時,所述基板傳送通道停止傳送所述玻璃基板,且所述振動馬達啟動工作以使所述擋板振動,將所述擋板上的所述藥液凝結成的液滴振落,當所述振動馬達停止振動時,所述基板傳送通道繼續將第一片所述玻璃基板通過所述化學槽傳送至所述水洗槽。本發明可以防止生產過程中擋板上的藥液液滴滴落到玻璃基板上,導致玻璃基板出現不清晰的現象。
聲明:
“濕式蝕刻機臺的清洗裝置及清洗方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)