本發明提供一種晶圓清潔系統,包括存儲罐、清洗室和回收罐,所述儲液罐通過第一管道連接所述清洗室頂部,所述清洗室內設有隔離板,所述隔離板用于將所述清洗室分為上部和下部,所述回收罐通過第二管道和第三管道分別連通所述清洗室的上部和下部;所述隔離板上開設通槽,半導體晶圓收容在所述通槽內;干凈的化學洗劑從所述清洗室的頂部流入以清洗半導體晶圓的上表面,使用過的化學洗劑從所述第二管道流入所述回收罐;所述晶圓清潔系統還包括濃度檢測器,用于檢測所述回收罐內液體的有效成分濃度,若所述濃度檢測器的檢測結果大于或等于一預設值,所述回收罐內的化學洗劑從所述第三管道流入所述清洗室下部以清洗所述晶圓的下表面。
聲明:
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