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            半導體清洗設備

            1229   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
            2023-03-19 07:32:26
            本發明提供一種半導體清洗設備,包括本體和設置在本體中的化學液槽、水槽、化學液排放管、水排放管、清洗液配給組件和液體檢測部件,化學液槽和水槽分別用于對晶片進行化學清洗和水洗,清洗液配給組件分別與化學液槽和水槽連通,用于分別向化學液槽和水槽輸送化學液體和水;化學液排放管一端與化學液槽連通,另一端貫穿本體延伸至本體外部,用于使化學液槽中的化學液體排放至本體外部,水排放管一端與水槽連通,另一端貫穿本體延伸至本體外部,用于使水槽中的水排放至本體外部,液體檢測部件用于對泄漏至本體中的液體進行檢測。本發明提供的半導體清洗設備能夠降低本體漏液現象發生的概率,從而降低安全事故發生的概率,提高使用安全性。
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            “半導體清洗設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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