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            測試結構及其版圖生成方法

            910   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
            2023-03-19 07:27:48
            本發明提供了一種測試結構,包括襯底以及所述襯底上的n×m個陣列的子MOS結構,每一所述子MOS結構包括柵極以及有源區;第i行、第j列的所述子MOS結構還包括柵極通孔以及有源區通孔;n≥3,m≥3,1<i<n,1<j<m,n、m、i、j均為正整數。本發明還提供一種測試結構的版圖生成方法。在所述測試結構中,第i行、第j列的所述子MOS結構作為待測試的MOS管,其余的所述子MOS結構作為冗余MOS管,提高所述測試結構中的圖形密度分布的均勻型,使得所述測試結構在制備過程中,避免受化學機械研磨和刻蝕等工藝的影響大,從而提高可靠性測試的結果的準確度。
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