本發明公開了一種納米微區阻抗原位測量技術,包括上位計算機PC、數據I/O通道、交流阻抗儀、原子力顯微鏡和機械耦合模塊,所述上位計算機PC與數據I/O通道連接,且數據I/O通道分別與交流阻抗儀和原子力顯微鏡連接,所述交流阻抗儀和原子力顯微鏡通過機械耦合模塊進行機械耦合,且交流阻抗儀包括微歐計、鎖相放大器和阻抗電路,所述微歐計和鎖相放大器均與數據I/O通道連接,且微歐計和鎖相放大器均與阻抗電路連接,所述微歐計與鎖相放大器連接。本發明可在觀察樣品表面形貌和結構變化的同時,在微納米尺度上進行精確定位的電化學檢測,實現材料結構、電子和離子輸運特性的實時原位測量。
聲明:
“納米微區阻抗原位測量技術” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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