本發明公開了一種用于微測輻射熱計的氧化釩薄膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:①清洗襯底,吹干后備用;②利用化學氣相沉積系統、弧光放電系統、激光燒蝕沉積系統反應器當中的一種,通過金屬催化劑誘導,在清潔襯底的表面直接反應生長網狀、或交錯互聯的碳納米管膜;③把生長有碳納米管膜的襯底放入抽為真空的反應器中,利用反應器生長一層氧化釩膜,所生長的氧化釩膜分散在碳納米管的表面、以及管與管的間隙當中,退火,形成氧化釩-碳納米管復合膜結構;④冷卻至室溫后,從反應器中取出;⑤根據需要,依次重復碳納米管生長、氧化釩沉積和退火步驟,形成氧化釩-碳納米管多層復合膜結構。
聲明:
“用于微測輻射熱計的氧化釩薄膜及其制作方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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