本發明提供一種滑片監測系統及監測方法,用于化學機械拋光系統,滑片監測系統包括:圖像獲取模塊,用于獲取監測區域的圖像;數據壓縮模塊,所述數據壓縮模塊和所述圖像獲取模塊通信連接,用于接收所述圖像獲取模塊獲取的圖像并對圖像進行二值化壓縮;圖像分析模塊,所述圖像分析模塊和所述數據壓縮模塊通信連接,用于對二值化壓縮后的圖像的像素值進行分析,判斷化學機械拋光系統是否發生滑片或碎片。利用上述的滑片監測系統,能夠實時的、準確的監測到是否發生滑片或碎片,避免由于滑片或碎片產生的細小顆粒影響之后所有晶圓的全局平坦化,甚至對晶圓本身產生不可逆的影響的問題,從而提升產品的良率。
聲明:
“滑片監測系統及監測方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)