本發明提供一種利用光譜儀量測氣體解離狀態的量測方法及其裝置。其原理主要藉由偵測管體內之氣體解離狀態,并藉由本裝置計算出解離相對量值,俾于氣體的主路徑污染值過高時,由一第二路徑適量釋出被解離之反應氣體,以排除該主路徑之污染物其設置范圍可應用于所有需量測氣體解離狀態之設備及/或裝置,包括但不限于半導體、光電或面板等產業中的物理氣相沉積設備、化學氣相沉積設備或蝕刻設備等相關設備,也可直接設置于Remote Plasma Source(遠端電漿源)設備內。另外,本發明也可應用在生技業、化學業及應用物理之相關行業的檢驗測試設備,更可進一步應用在以上相關行業之設備維修業的檢驗設備或測試平臺。
聲明:
“應用光譜儀來量測電漿氣體解離狀態的量測方法及其裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)