本發明涉及建立掩模版缺陷檢測程式的方法,包括:提供一批掩模版,其中所述掩模版均為相移掩膜版、均為二元掩模板或為相移掩膜版和二元掩模板的混合;在所有掩模版的一相同固定位置設置一預定圖形,其中對于相移掩膜版,所述預定圖形包括石英圖形區域、鉻圖形區域和合成化學材料圖形區域,對于二元掩模板,所述預定圖形包括石英圖形區域和鉻圖形區域,而無需在每個掩模版內尋找一定大小純石英、鉻或合成化學材料的地方,而可縮減尋找掩模版缺陷檢測校準點的時間,建立掩模版缺陷檢測程式時無需基于光罩建立而直接將坐標定位到該固定位置即可,而可完成離線建立掩模版缺陷檢測程式,從而在降低人員工作量的同時大幅提高機臺產能。
聲明:
“建立掩模版缺陷檢測程式的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)