本發明涉及一種鑄造奧氏體不銹鋼單相刻蝕的電化學方法,包括以下步驟:取含鐵素體相體積百分數12%~20%的鑄造奧氏體不銹鋼樣品,配置稀硫酸和稀鹽酸的混合溶液作為刻蝕介質;采用三電極體系,純鉑電極為輔助電極,鑄造奧氏體不銹鋼樣品為工作電極,飽和甘汞電極為參比電極;采用動電位儀對所述鑄造奧氏體不銹鋼樣品進行極化曲線測試;對所述鑄造奧氏體不銹鋼樣品施加恒電位進行刻蝕;觀察刻蝕后樣品的組織形貌和分布。本發明的有益效果為:所需設備簡單、易于操作、適用范圍廣,能實現不同鐵素體含量的鑄造奧氏體不銹鋼的單相刻蝕,能夠實現全面、準確、清晰的鑄造奧氏體不銹鋼單相刻蝕。
聲明:
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