一種用于化學氣相沉積液體原料汽化供給裝置與使用方法,其供給裝置包括儲液罐、電子秤、汽化室、供氣系統、管路、調節閥、截止閥、真空泵和真空計;其使用方法包括:1、預備階段;2、流量調節階段;3、穩恒供氣階段;4、停機階段。本發明與現有的液體原料汽化供給系統相比,該裝置能夠準確地實時測量液體原料汽化蒸汽的流量,并能根據CVD生產系統中過程工藝參數的變化,實時調節控制上料閥的開度,使液態原料的汽化流量可調、可控,保持均勻,從而為化學汽相沉積(CVD)生產設備提供有利的液態原料汽化供給裝置。
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