本發明屬于表面化學技術領域,特別涉及一種在超高真空系統內精確氣體進樣、采集的分析裝置。包括氣路裝置、定量給料器裝置、殘余氣體分析儀裝置、激光器及超高真空腔體,其中氣路裝置和定量給料器裝置連接,定量給料器裝置接入超高真空腔體內,用于給樣品的表面提供吸附氣體;殘余氣體分析儀與銅罩子組合安裝在超高真空腔體上,用于精準探測樣品表面脫附出的氣體;超高真空腔體上有預留的窗口,激光器發射的激光通過窗口照射至樣品的表面上進行光化學反應。本發明易操作,精確度高,可以靈活地在超高真空系統內以各種角度轉動樣品,結合外加光照,可進一步探測并分析表面化學反應產物。
聲明:
“在超高真空系統內精確氣體進樣、采集的分析裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)