一種基于光學相干層析成像不均勻性評估的微區分析方法,采用掃頻光學相干層析成像儀,在透明和半透明的玻璃、陶瓷及寶玉石等無機材料及其工藝品上進行二維和三維掃描,根據非均質材料對光的吸收和散射的差異,確定瓷釉和玻璃中的析晶或未熔融原料以及寶玉石中的包裹體等異質顆粒的位置,對其表面和亞表面均勻性和表面風化程度進行評估。根據研究目的準確確定玻璃、陶瓷和寶玉石合適的微區分析區域,為精確定性和定量分析提供科學依據。本發明方法節約時間,提高了分析效率,可廣泛應用于透明和半透明材料表面及亞表面的化學成分和物相等微區表征、工藝檢測等領域。
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