本實用新型公開了一種半導體化學氣相沉淀裝置金屬面板測孔治具,屬于氣相沉淀裝置測孔技術領域,包括治具本體,所述治具本體為一具有厚度的矩形板結構,所述治具本體上一側設有對稱設置的找正孔,所述治具本體中部開設有定位槽,所述定位槽為貫穿于治具本體的圓形通孔;所述定位槽的側壁連接有定位環,所述定位環為一具有厚度和高度的圓環狀結構,所述定位環上端面為階梯狀的臺階卡槽;所述治具本體的一角處連接有定位塊,治具本體上定位塊所在位置開設有底部定位孔。本治具節省測量時間,測孔位置固定,測量結果準確且有對比性。
聲明:
“半導體化學氣相沉淀裝置金屬面板測孔治具” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)