本發明提供一種在將由保存在源物質蒸發部中的源物質蒸發出的源氣體提供給蒸鍍室執行薄膜蒸鍍的化學氣相蒸鍍工序中,測量源物質蒸發部中剩余的源物質量的方法。本發明的方法的特征在于,包括(A)將源物質蒸發部(110)內的氣體壓力維持在第1壓力的階段、和(B)往源物質蒸發部(110)中提供測量氣體從而將源物質蒸發部(110)內的氣體壓力維持在第2壓力的階段;根據源物質蒸發部(110)內的氣體壓力從第1壓力到達第2壓力時為止的測量氣體的供給量或供給時間,測量源物質蒸發部(110)中剩余的源物質(120)的量。
聲明:
“化學氣相蒸鍍工序中的源物質量測量方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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